[发明专利]一种反射防止膜及包含该反射防止膜的光学部件有效
申请号: | 201910012614.4 | 申请日: | 2019-01-07 |
公开(公告)号: | CN109581549B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 葛文志;木村隆志 | 申请(专利权)人: | 杭州美迪凯光电科技股份有限公司;新世界有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115 |
代理公司: | 杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙) 33260 | 代理人: | 张瑜 |
地址: | 310000 浙江省杭州市杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 防止 包含 光学 部件 | ||
1.一种反射防止膜,反射防止膜设于基材层表面,其特征在于,所述的反射防止膜包括设于基材层表面上的多层膜、设于多层膜外侧的保护膜,所述的多层膜由两层或三层低反射层堆积形成,所述的基材层折射率为1.43以上、1.70以下,所述的多层膜为两层低反射层结构时,所述的两层低反射层中第一低反射层折射率为1.30~1.50且光学膜厚为60~180nm、第二低反射层折射率为1.15~1.23且光学膜厚为60~120nm,所述多层膜为三层低反射层结构时,所述的三层低反射层中第一低反射层折射率为1.30~1.70且光学膜厚为30~170nm、第二低反射层折射率为1.30~1.50且光学膜厚为80~120nm、第三低反射层折射率为1.15~1.23且光学膜厚为80~120nm,所述的反射防止膜的多层膜外侧依次设有两层保护膜,所述的两层保护膜中第一层保护膜的折射率为1.30~2.40且光学膜厚在20nm以下、第二层保护膜的折射率为1.30~1.60且光学膜厚为10~30nm;
所述的第一低反射层的折射率设定为比基材层的折射率小;所述的第一低反射层的折射率大于第二低反射层的折射率;并且,所述的多层膜为三层时,第二低反射层的折射率比第三低反射层的折射率高;
所述的第一层保护膜的折射率高于多层膜最外侧低反射层折射率。
2.根据权利要求1所述的反射防止膜,其特征是,所述的基材层、多层膜的折射率设定为在He光源的d线下获得,所述的d线波长为587.56nm。
3.根据权利要求1所述的反射防止膜,其特征是,所述的反射防止膜对于入射角度0度时光线的反射率最大值不超过0.2%、最小值不超过0.1%,所述光线的波长为450nm~600nm的范围内。
4.根据权利要求1所述的反射防止膜,其特征是,所述的反射防止膜对于入射角度0度时光线的反射率最大值不超过0.2%,所述光线的波长为380nm~780nm的范围内。
5.根据权利要求1所述的反射防止膜,其特征是,所述的多层膜和保护膜采用折射率不同的两种或三种材料构成,其中折射率为1.30~1.70的膜层采用Si、Mg、Al的单体或它们的混合物组成,折射率为1.15~1.23的膜层采用硅的氧化物的单体或包含其在内的混合物组成。
6.根据权利要求1所述的反射防止膜,其特征是,所述的多层膜为两层低反射层结构时,所述的两层低反射层中的第二低反射层由包含Si的中空微粒子组成,所述的多层膜为三层低反射层结构时,所述的三层层低反射层中的第三低反射层由包含Si的中空微粒子组成。
7.根据权利要求1所述的反射防止膜,其特征是,所述的多层膜为两层低反射层结构或三层低反射层结构时,所述的第一低反射层由SiO2、MgF2、Al2O5的单体或者其混合物组成。
8.一种包含权利要求1-7中任一项所述反射防止膜的光学部件,其特征在于,所述的反射防止膜设于光学部件滤光片的双面或单面上。
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