[发明专利]一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽

权利要求书

1.一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，包括蒸发槽(1)和覆盖在蒸发槽(1)顶端的盖板(4) ，其特征在于：所述蒸发槽(1)内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6) ，每组所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间放置有钼舟(5) ，且所述钼舟(5)间隔分布在第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间，所述钼舟(5) 两侧分别形成有电极连接头(7) ，所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)与相应的电极连接头(7)之间，通过放置铜片(3)进行导电连接，每个所述钼舟(5)上均紧密排列有多块靶材(11) ，所述钼舟(5)下端还垫有上支撑垫块(15) 和下支撑垫块(16) ，且所述上支撑垫块(15)和下支撑垫块(16)均为绝缘垫块；

所述钼舟 (5)为由多个钼条(9)首尾相连拼接而成的方形结构，且相邻两个所述钼条(9)之间形成有条形缝隙(8) ，两个所述电极连接头(7)为分别位于钼舟(5)两侧的钼条(9)向外延伸的端头部分；所述上支撑垫块(15)整体呈与钼舟(5)尺寸相匹配的方形结构，且所述上支撑垫块(15)顶端均匀等间距的开设有多个条形槽(13) ，相邻两个所述条形槽(13)之间形成有多个支撑隔条(14)。

2.根据权利要求1中所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述条形槽(13)深度小于上支撑垫块(15)整体高度的三分之一。

3.根据权利要求1所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述条形槽(13)宽度不小于支撑隔条(14)宽度的三倍。

4.根据权利要求1所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述第一铜柱电极(2)的长度大于第二铜柱电极(6) ，且沿所述蒸发槽(1)宽度方向分布的每相邻两组第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间反向排布，沿所述蒸发槽(1)长度方向分布的两排第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间形成交错的靶材放置空间。

5.根据权利要求1所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述靶材(11)具体为圆柱形结构，且所述靶材(11)立放后紧密排列在钼舟(5)上，放置后的多排所述靶材(11)形成的蒸发顶面(12)为弧形且高低不同的蒸发面。

6.根据权利要求5所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：沿所述钼条(9)宽度方向的两侧外边缘弯折形成有第一挡边，沿所述钼条(9)长度方向的两侧外边缘插接有一排碳化硅柱(10) ，形成第二挡边，相邻两根所述碳化硅柱(10)之间间距小于靶材(11)外径。

7.根据权利要求1所述的一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，其特征在于：所述上支撑垫块(15)具体采用熔铸α-Al₂O₃耐火砖切割打磨制成。