[发明专利]一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽

说明书

本发明公开了一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，包括蒸发槽和覆盖在蒸发槽顶端的盖板，蒸发槽内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极和第二铜柱电极，每组第一铜柱电极和第二铜柱电极之间放置有钼舟，且钼舟间隔分布在第一铜柱电极和第二铜柱电极之间，钼舟两侧分别形成有电极连接头，第一铜柱电极和第二铜柱电极与相应的电极连接头之间，通过放置铜片进行导电连接，每个钼舟上均紧密排列有多块靶材，钼舟下端还垫有上支撑垫块和下支撑垫块，且上支撑垫块和下支撑垫块均为绝缘垫块。本发明提供的蒸发槽组件配合蒸镀真空工艺，能够实现透明反光炫彩膜的加工工艺过程。

技术领域

本发明涉及电镀蒸发槽技术领域，具体为一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽。

背景技术

对于普通的彩虹膜通常是利用两种或两种以上具有不同折光指数的透明热塑性树脂(折光指数至少相差0.03)经ABABAB.....或ABCABCABC...组合形成至少30层以上均匀平行的交替芯层，在芯层外面包附厚度为薄膜总厚度5-50％的两边皮层经流延到冷却棍上形成厚度为0.015-0.05mm的薄膜，当薄膜的厚度达到一定范围时，由于光干涉的作用，薄膜会产生五颜六色类似彩虹的效果。但是现有的这种利用多层树脂形成的彩虹膜的强度不高，且其反光性能差，同时加工工艺较为复杂，此外普通的透明介质膜为将硫化锌靶材直接蒸镀在PTE、PP、OPP膜等普通塑料膜上，这样得到的介质膜反光效果差，而传统的镀铝植株膜虽然反光效果好，但难以达到透明的效果。

发明内容

解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，解决了目前的利用多层树脂形成的彩虹膜的强度不高，且其反光性能差，同时加工工艺复杂，且普通的介质膜反光效果差，而传统的镀铝植株膜虽然反光效果好，但难以达到透明的效果的问题。

技术方案

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽，包括蒸发槽和覆盖在蒸发槽顶端的盖板，所述蒸发槽内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极和第二铜柱电极，每组所述第一铜柱电极和第二铜柱电极之间放置有钼舟，且所述钼舟间隔分布在第一铜柱电极和第二铜柱电极之间，所述钼舟两侧分别形成有电极连接头，所述第一铜柱电极和第二铜柱电极与相应的电极连接头之间，通过放置铜片进行导电连接，每个所述钼舟上均紧密排列有多块靶材，所述钼舟下端还垫有上支撑垫块和下支撑垫块，且所述上支撑垫块和下支撑垫块均为绝缘垫块。

优选的，所述钼舟为由多个钼条首尾相连拼接而成的方形结构，且相邻两个所述钼条之间形成有条形缝隙，两个所述电极连接头为分别位于钼舟两侧的钼条向外延伸的端头部分。

优选的，所述上支撑垫块整体呈与钼舟尺寸相匹配的方形结构，且所述上支撑垫块顶端均匀等间距的开设有多个条形槽，相邻两个所述条形槽之间形成有多个支撑隔条。

优选的，所述条形槽深度小于上支撑垫块整体高度的三分之一。

优选的，所述条形槽宽度不小于支撑隔条宽度的三倍。

优选的，所述第一铜柱电极的长度大于第二铜柱电极，且沿所述蒸发槽宽度方向分布的每相邻两组第一铜柱电极和第二铜柱电极之间反向排布，沿所述蒸发槽长度方向分布的两排第一铜柱电极和第二铜柱电极之间形成交错的靶材放置空间。

优选的，所述靶材具体为圆柱形结构，且所述靶材立放后紧密排列在钼舟上，放置后的多排所述靶材形成的蒸发顶面为弧形且高低不同的蒸发面。

优选的，沿所述钼条宽度方向的两侧外边缘弯折形成有第一挡边，沿所述钼条长度方向的两侧外边缘插接有一排碳化硅柱，形成第二挡边，相邻两根所述碳化硅柱之间间距小于靶材外径。优选的，所述上支撑垫块具体采用熔铸α-Al2O3耐火砖切割打磨制成。

有益效果