[发明专利]孔径校准方法及多带电粒子束描绘装置有效
申请号: | 201910022374.6 | 申请日: | 2019-01-10 |
公开(公告)号: | CN110018618B | 公开(公告)日: | 2021-07-20 |
发明(设计)人: | 饭塚修 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 刘英华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 孔径 校准 方法 带电 粒子束 描绘 装置 | ||
1.一种孔径校准方法,具备:
放出带电粒子束的工序;
使上述带电粒子束在成形孔径阵列的多个开口通过从而形成多束的工序;
使用配置成消隐孔径阵列的多个消隐器,进行切换上述多束中的各个对应的束的开启/关断的消隐偏转的工序;以及
使用在能够载置基板的工作台上所设置的检测器,检测该工作台上的束电流的工序,
将上述多束中的一部分束设为开启,对上述消隐孔径阵列进行扫描,并根据基于上述检测器的上述束电流的检测结果及上述消隐孔径阵列的位置,制作电流量图,
切换设为开启的束,并按每个开启束制作上述电流量图,
根据每个上述开启束的电流量图,调整上述消隐孔径阵列的位置。
2.根据权利要求1所述的孔径校准方法,其特征在于,
根据每个上述开启束的电流量图,计算束位置的倍率,并根据上述倍率使上述消隐孔径阵列在Z方向上移动。
3.根据权利要求1所述的孔径校准方法,其特征在于,
在每个上述开启束的电流量图的等高线的最高地点从图中央向同一方向偏移的情况下,根据距图中央的偏移量使上述消隐孔径阵列在X方向及/或Y方向上移动。
4.根据权利要求1所述的孔径校准方法,其特征在于,
根据每个上述开启束的电流量图的等高线的最高地点的位置,调整上述消隐孔径阵列的倾斜。
5.根据权利要求1所述的孔径校准方法,其特征在于,
根据每个上述开启束的电流量图的亮度的重心与该电流量图的中心之间的偏移量的平均值,使上述消隐孔径阵列移动。
6.根据权利要求1所述的孔径校准方法,其特征在于,
将正方形状的上述多束的中心部、四角及四边的边缘部的中央部设为开启束区域。
7.一种多带电粒子束描绘装置,具备:
能够载置基板的工作台;
放出部,放出带电粒子束;
成形孔径阵列,形成有多个开口,在包括上述多个开口的区域接受上述带电粒子束的照射,上述带电粒子束的一部在上述多个开口通过,从而形成多束;
消隐孔径阵列,配置有多个消隐器,该多个消隐器进行切换上述多束中的各个对应的束的开启/关断的消隐偏转;
检测器,设置于上述工作台上,检测该工作台上的束电流;
移动部,使上述消隐孔径阵列移动;以及
控制部,进行上述多个消隐器及上述移动部的控制,从上述检测器取得上述束电流的检测结果,
上述控制部,
将上述多束中的一部分束设为开启,对上述消隐孔径阵列进行扫描,并根据基于上述检测器的上述束电流的检测结果及上述消隐孔径阵列的位置,制作电流量图,
切换设为开启的束,并按每个开启束制作上述电流量图,
根据每个上述开启束的电流量图,控制上述移动部,调整上述消隐孔径阵列的位置。
8.根据权利要求7所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
上述控制部,根据每个上述开启束的电流量图计算束位置的倍率,并根据上述倍率使上述消隐孔径阵列在Z方向上移动。
9.根据权利要求7所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
上述控制部,在每个上述开启束的电流量图的等高线的最高地点从图中央向同一方向偏移的情况下,根据距图中央的偏移量使上述消隐孔径阵列在X方向及/或Y方向上移动。
10.根据权利要求7所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
上述控制部,根据每个上述开启束的电流量图的等高线的最高地点的位置,调整上述消隐孔径阵列的倾斜。
11.根据权利要求7所述的多带电粒子束描绘装置,其特征在于,
上述控制部,根据每个上述开启束的电流量图的亮度的重心与该电流量图的中心之间的偏移量的平均值,使上述消隐孔径阵列移动。
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