[发明专利]一种蒸镀装置、蒸镀方法、混合层和显示面板

权利要求书

1.一种蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括：

第一蒸发线源，用于蒸镀第一材料；

第二蒸发线源，用于蒸镀第二材料；

其中，所述第一蒸发线源的喷嘴和所述第二蒸发线源的喷嘴均朝向待蒸镀的基板；所述第一蒸发线源和所述第二蒸发线源间隔开一定距离，所述第一蒸发线源的待蒸镀区和所述第二蒸发线源的待蒸镀区完全重叠；

所述第一蒸发线源以及所述第二蒸发线源相对于待蒸镀的基板的运动方向，平行于X轴正方向，以使在所述基板上蒸镀的薄膜中所述第一材料的体积浓度沿远离所述基板的方向上逐渐增加，所述第二材料的体积浓度沿远离所述基板的方向上逐渐较小；其中，所述X轴正方向平行于所述基板所在平面；所述第一蒸发线源沿所述X轴正方向的蒸镀速率逐渐减小，所述第二蒸发线源沿所述X轴正方向的蒸镀速率逐渐增大。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一蒸发线源还包括第一坩埚、第一角度板和第二角度板；所述第一坩埚用于放置所述第一材料；所述第一角度板位于所述第一蒸发线源的喷嘴远离所述第二蒸发线源的一侧；所述第二角度板位于所述第一蒸发线源的喷嘴邻近所述第二蒸发线源的一侧；

所述第一角度板的一端与所述第一蒸发线源的一端的延长线在垂直于所述基板的方向上重叠；

所述第二角度板的一端和所述第一蒸发线源的喷嘴的一端的延长线，与所述基板形成锐角；

所述第二蒸发线源还包括第二坩埚、第三角度板和第四角度板；所述第二坩埚用于放置所述第二材料；所述第三角度板位于所述第二蒸发线源的喷嘴远离所述第一蒸发线源的一侧；所述第四角度板位于所述第二蒸发线源的喷嘴邻近所述第一蒸发线源的一侧；

所述第三角度板的一端与所述第二蒸发线源的喷嘴一端的延长线在垂直于所述基板的方向上重叠；

所述第四角度板的一端和所述第二蒸发线源的喷嘴的一端的延长线，与所述基板形成锐角。

3.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一材料为空穴传输材料，所述第二材料为空穴注入材料。

4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一蒸发线源和所述第二蒸发线源间隔开一定距离的预设值的取值范围为20cm-100cm。

5.一种蒸镀方法，其特征在于，蒸镀装置包括第一蒸发线源和第二蒸发线源；所述第一蒸发线源用于蒸镀第一材料；所述第二蒸发线源用于蒸镀第二材料；所述第一蒸发线源的喷嘴和所述第二蒸发线源的喷嘴均朝向待蒸镀的基板；所述第一蒸发线源和所述第二蒸发线源间隔开一定距离，所述第一蒸发线源的待蒸镀区和所述第二蒸发线源的待蒸镀区完全重叠；

所述蒸镀方法包括：

控制所述第一蒸发线源和所述第二蒸发线源共同蒸镀；

控制所述第一蒸发线源以及所述第二蒸发线源相对于待蒸镀的基板的运动方向，平行于X轴正方向，以使在所述基板上蒸镀的薄膜中所述第一材料的体积浓度沿远离所述基板的方向上逐渐增加，所述第二材料的体积浓度沿远离所述基板的方向上逐渐较小；其中，所述X轴正方向平行于所述基板所在平面。

6.根据权利要求5所述的蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀装置还包括基板承载台；所述待蒸镀的基板固定于所述基板承载台上，且所述基板承载台固定；

控制所述第一蒸发线源以及所述第二蒸发线源相对于待蒸镀的基板的运动方向，平行于X轴正方向，包括：

控制所述第一蒸发线源以及所述第二蒸发线源沿所述X轴正方向移动。

7.一种混合层，其特征在于，采用权利要求1-4中任一所述的蒸镀装置形成，所述混合层包括第一材料和第二材料；

沿所述混合层的厚度方向上，所述第一材料的体积浓度逐渐增加，所述第二材料的体积浓度逐渐减小；或者，沿所述混合层的厚度方向上，所述第一材料的体积浓度逐渐减小，所述第二材料的体积浓度逐渐增加。