[发明专利]基片卸载机械手及基片加工系统有效

专利信息
申请号: 201910026240.1 申请日: 2019-01-11
公开(公告)号: CN109719706B 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 姚远;李玉敏;费玖海 申请(专利权)人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
主分类号: B25J9/00 分类号: B25J9/00;B25J13/08;B25J19/00;B08B3/02;B24B41/00;B24B49/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 杨鹏
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 卸载 机械手 加工 系统
【权利要求书】:

1.一种基片卸载机械手,其特征在于,包括基座、缓冲装置和浮动托盘;

所述基座和所述浮动托盘均呈环臂状,且所述浮动托盘位于所述基座上方;所述缓冲装置位于所述浮动托盘和所述基座之间,用于调整所述浮动托盘和所述基座的相对位置;

所述浮动托盘上设置有定位座,所述定位座上设置有抛光头定位斜面和基片定位斜面;所述抛光头定位斜面呈弧形并与抛光头的底端边沿相适配,用于定位所述抛光头;所述基片定位斜面呈弧形并与基片的边沿相适配,用于承接所述基片以将其从所述抛光头上稳定取下;

所述浮动托盘上还设置有检测装置;

所述检测装置包括检测喷头、喷水管路和水压传感器,所述检测喷头与所述喷水管路相连通,用于向所述基片上喷水;所述水压传感器设置于所述喷水管路内并靠近所述检测喷头处,用于检测所述检测喷头喷水的水压值。

2.根据权利要求1所述的基片卸载机械手,其特征在于,所述缓冲装置的数量为多个,多个缓冲装置间隔设置于所述浮动托盘和所述基座之间;

所述缓冲装置包括上压盖、下压盖和波纹管,所述上压盖与所述浮动托盘相连接,所述下压盖与所述基座相连接;所述波纹管位于所述上压盖和所述下压盖之间,且所述波纹管的两端分别与所述上压盖和所述下压盖相连接,所述浮动托盘和所述基座的相对位置改变能够带动所述波纹管伸缩或偏移。

3.根据权利要求2所述的基片卸载机械手,其特征在于,所述缓冲装置还包括连接螺钉;

所述连接螺钉沿竖直方向设置;所述下压盖上设置有容纳腔,所述连接螺钉的螺帽端位于所述容纳腔内,所述连接螺钉的螺纹连接端与所述上压盖相连接;所述波纹管伸缩或偏移能够带动所述连接螺钉的所述螺帽端在所述容纳腔内上下运动或水平偏转。

4.根据权利要求1所述的基片卸载机械手,其特征在于,还包括清洁装置;

所述清洁装置包括支座和清洁喷头,所述支座的一端与所述定位座相连接,所述支座的另一端向所述浮动托盘的内侧延伸;所述清洁喷头设置于所述支座上远离所述定位座的一端,且所述清洁喷头的喷孔朝向所述基片。

5.根据权利要求4所述的基片卸载机械手,其特征在于,所述清洁装置的数量为多个,多个所述清洁装置沿所述浮动托盘的周向均匀间隔分布。

6.根据权利要求5所述的基片卸载机械手,其特征在于,所述清洁装置的数量为三个,三个所述清洁装置互成120°夹角分布。

7.根据权利要求5或6所述的基片卸载机械手,其特征在于,每一所述支座上设置有两个所述清洁喷头,一个所述清洁喷头的喷水方向垂直于所述基片的下端面,另一个所述清洁喷头的喷水方向与所述基片的下端面呈夹角设置。

8.根据权利要求4所述的基片卸载机械手,其特征在于,所述定位座远离所述支座的一侧上设置有连接座,所述抛光头定位斜面设置于所述连接座上。

9.一种基片加工系统,其特征在于,包括权利要求1至8任一项所述的基片卸载机械手。

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