[发明专利]掩膜板异物清除装置

说明书

本发明提供一种掩膜板异物清除装置，包括气体循环系统及静电除尘机构，所述气体循环系统包括密闭腔体、设置在密闭腔体上的吹气孔和吸气孔及设置在密闭腔体外侧分别与吹气孔和吸气孔连接的吹气管道和吸气管道，所述静电除尘机构设置在所述密闭腔体的入口外侧以在掩膜板进入所述密闭腔体内部之前对该掩膜板进行静电除尘处理，当掩膜板进入密闭腔体内部后，所述气体循环系统可对掩膜板做进一步清洁处理，通过气体循环系统及静电除尘机构可将掩膜板上的异物颗粒有效清除，节省了掩膜板的清洁时间，降低了掩膜板在清洁过程中的损坏风险。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜板异物清除装置。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)和有源矩阵驱动式有机电致发光(Active Matrix Organic Light-Emitting Diode，AMOLED)显示器等平板显示装置因具有机身薄、高画质、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本屏幕等。

在LCD和AMOLED的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置掩膜板(Mask)，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压汞灯发出UV紫外光线，将掩膜板上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于掩膜板的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。

构图工艺通常在无尘的洁净室内进行，即曝光机放置于洁净室中对基板进行曝光。所述曝光机的构架通常主要包括光源灯室(Lamp House)、设于光源灯室上与光源灯室相连接的照明系镜组、设于光源灯室及照明系镜组下方具有构图图案的掩膜板、设于掩膜板下方的投影光学镜组、及设于投影光学镜组下方用于承载基板的工作台，另外为了保证曝光环境便于调节，曝光机还通常会采用密封的曝光腔体设计，其中，掩膜板、投影光学镜组、及工作台设置于曝光腔体内。

在光刻转印过程中，如果掩膜板上存在异物颗粒(particle)，显影后会在所成像的图形上形成缺陷，影响产品的品质。目前曝光机有particle检测装置，但检测出particle后，曝光机无法对掩膜板上的particle进行去除，此时需要将掩膜板从曝光机中移出，人工对掩膜板进行清洁，既浪费时间，且人工清洁时又存在风险。

发明内容

本发明的目的在于提供一种掩膜板异物清除装置，节省了掩膜板的清洁时间，降低了掩膜板在清洁过程中的损坏风险。

为实现上述目的，本发明提供一种掩膜板异物清除装置，包括气体循环系统及静电除尘机构；

所述气体循环系统包括密闭腔体及设置在密闭腔体外侧的吹气管道和吸气管道；所述密闭腔体的两相对侧面上分别设有吹气孔及吸气孔，所述吹气管道和吸气管道分别与吹气孔和吸气孔连接；

所述密闭腔体一侧设有供掩膜板进出密闭腔体内部的入口及对入口进行封闭的挡板；

所述静电除尘机构设置在所述密闭腔体的入口外侧以在掩膜板进入所述密闭腔体内部之前对该掩膜板进行静电除尘处理。

所述静电除尘机构包括相对设置的分别对掩膜板的上表面和下表面进行静电除尘处理的上静电除尘单元及下静电除尘单元。

所述上静电除尘单元和下静电除尘单元均为静电棒。

所述上静电除尘单元和下静电除尘单元均为离子风枪。

所述吹气管道通过所述吹气孔向所述密闭腔体内部吹入压缩空气、氮气或离子气体。