[发明专利]一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备

权利要求书

1.一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括：在双蒸水中溶解模板离子的无机盐，随后加入核糖核苷酸，450-550rpm搅拌1～2h，在上述溶液中加入氨基苯硼酸，使用50-100mmol/L氢氧化钠调节溶液pH至8-10，通氮除氧后，加入纳米二氧化硅和0.05～0.2mol/L过硫酸铵溶液，氮吹20～40min，持续磁力搅拌反应10～14h，待反应结束后，离心收集产物，使用50-100mmol/L的含巯基化合物洗脱模板离子，再使用双蒸水洗涤，离心收集产物，60～80℃烘干得到基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物；所述模板离子的无机盐为亚砷酸钠。

2.如权利要求1所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的纳米二氧化硅的制备方法包括：在反应容器中加入无水乙醇，再加入双蒸水，400-500rpm磁力搅拌的同时加入四乙氧基硅烷，最后加入质量浓度为25％-28％的氨水，继续磁力搅拌6-10h，反应结束后4800-5200rpm离心8-12min收集产物，用无水乙醇洗涤沉淀，离心收集样品，65-75℃烘干得到纳米二氧化硅。

3.如权利要求2所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的无水乙醇、双蒸水、四乙氧基硅烷和氨水的体积比为280-320：120-130：20-30：10-20。

4.如权利要求1所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的模板离子的无机盐、核糖核苷酸和氨基苯硼酸的摩尔比为：0.1-1：0.2-2：0.2-2。

5.如权利要求1所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的模板离子的无机盐与纳米二氧化硅的用量比为0.1-1mol：1g。

6.如权利要求1所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的模板离子的无机盐与过硫酸铵溶液的用量比为0.1-1mol：5ml。

7.如权利要求1所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的模板离子的无机盐与双蒸水的用量比为：0.1-1mol：45ml。

8.如权利要求1所述的基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述的核糖核苷酸为鸟嘌呤核糖核苷酸，腺嘌呤核糖核苷酸，胞嘧啶核糖核苷酸和胸腺嘧啶核糖核苷酸中的至少一种。