[发明专利]一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备

说明书

本发明提供了一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括：在双蒸水中溶解模板离子的无机盐，随后加入核糖核苷酸，450‑550rpm搅拌1～2h，在上述溶液中加入氨基苯硼酸，使用50‑100mmol/L氢氧化钠调节溶液pH至8‑10，通氮除氧后，加入纳米二氧化硅和0.05～0.2mol/L过硫酸铵溶液，氮吹20～40min，持续磁力搅拌反应10～14h，待反应结束后，离心收集产物，使用50‑100mmol/L的含巯基化合物洗脱模板离子，再使用双蒸水洗涤，离心收集产物，60～80℃烘干得到基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物。本发明制备过程中选择对金属离子有良好亲和力的核糖核苷酸作为功能单体，通过印迹单体和印迹空腔的协同作用，能够进一步提高离子印迹的选择性。

技术领域

本发明涉及一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备，属于功能材料制备技术领域。

背景技术

离子印迹技术(Molecular Imprinted Technology)是一种在分子印迹基础上，通过特异性的配位或静电作用构筑针对不同离子的选择性识别空腔。与分子印迹相比，在水相环境下离子印迹中形成络合物的作用力远大于分子间的氢键，因而具有更好离子识别能力。

目前，离子印迹的制备多借助模板离子和具备孤对电子的功能单体间的络合/配位作用。然而，多数离子具有相同的电荷或近似的离子半径，所制备的离子印迹聚合物选择性较差。另一方面，这类印迹聚合物往往是在有机溶剂环境中制备，而在水相环境中评价其吸附和解离性能。制备和应用环境的差异性也成为限制离子印迹聚合物应用范围的关键因素。

发明内容

本发明的目的是提供一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，以克服现有离子印迹聚合物因制备和应用环境的差异导致吸附和解离性能较差的问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括：在双蒸水中溶解模板离子的无机盐，随后加入核糖核苷酸，450-550rpm搅拌1～2h，在上述溶液中加入氨基苯硼酸，使用50-100mmol/L氢氧化钠调节溶液pH至8-10，通氮除氧后，加入纳米二氧化硅和0.05～0.2mol/L过硫酸铵溶液，氮吹20～40min，持续磁力搅拌反应10～14h，待反应结束后，离心收集产物，使用50-100mmol/L的含巯基化合物洗脱模板离子，再使用双蒸水洗涤，离心收集产物，60～80℃烘干得到基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物。

优选地，所述的纳米二氧化硅(印迹载体)的制备方法包括：在反应容器中加入无水乙醇，再加入双蒸水，400-500rpm磁力搅拌的同时加入四乙氧基硅烷，最后加入质量浓度为25％-28％的氨水，继续磁力搅拌6-10h，反应结束后4800-5200rpm离心8-12min收集产物，用无水乙醇洗涤沉淀，离心收集样品，65-75℃烘干得到纳米二氧化硅。

更优选地，所述的无水乙醇、双蒸水、四乙氧基硅烷和氨水的体积比为280-320：120-130：20-30：10-20。

优选地，所述的模板离子的无机盐、核糖核苷酸和氨基苯硼酸的摩尔比为：0.1-1：0.2-2：0.2-2。

优选地，所述的模板离子的无机盐与纳米二氧化硅的用量比为0.1-1mol：1g，

优选地，所述的模板离子的无机盐与过硫酸铵溶液的用量比为0.1-1mol：5ml。

优选地，所述的模板离子的无机盐与双蒸水的用量比为：0.1-1mol：45ml。

优选地，所述的核糖核苷酸为鸟嘌呤核糖核苷酸，腺嘌呤核糖核苷酸，胞嘧啶核糖核苷酸和胸腺嘧啶核糖核苷酸中的至少一种。