[发明专利]清洁组合物、清洁装置和使用其制造半导体器件的方法

权利要求书

1.一种清洁组合物，所述清洁组合物包括：

表面活性剂；

去离子水；以及

有机溶剂，

其中，表面活性剂以0.28M至0.39M的浓度或0.01至0.017的摩尔分数包括在清洁组合物中，

其中，有机溶剂以7.1M至7.5M的浓度或0.27至0.35的摩尔分数包括在清洁组合物中。

2.根据权利要求1所述的清洁组合物，其中，表面活性剂是硫酸盐类表面活性剂。

3.根据权利要求1所述的清洁组合物，其中，表面活性剂由下面的式1表示：

(R¹-O)_a-(R²-O)_b-SO₃NH₄ (1)

其中，在式1中，

a和b均为0至18的整数，前提条件是a和b不同时为0，

R¹和R²均是具有1个至18个碳原子的取代或未取代的烷基、具有1个至18个碳原子的取代或未取代的亚烷基、具有6个至14个碳原子的取代或未取代的芳基或者具有6个至14个碳原子的取代或未取代的亚芳基，并且

当a为3至18时，(R¹-O)无规或以段形式重复，当b为3至18时，(R²-O)无规或以段形式重复。

4.根据权利要求3所述的清洁组合物，其中：

a为1，

R¹具有16个碳原子，

b为0，并且

表面活性剂为十六烷基硫酸铵。

5.根据权利要求1所述的清洁组合物，其中，有机溶剂包括异丙醇、乙醇、甲醇、二甲基亚砜、二甲基甲酰胺、四氢呋喃、乙二醇、丙二醇、N-甲基-2-吡咯烷酮或N-乙基-2-吡咯烷酮。

6.一种用于清洁基底的清洁装置，所述清洁装置包括：

卡盘，所述基底在卡盘上是可容置的；

喷嘴，构造为将清洁液提供到基底；以及

清洁液供应部，构造为将清洁液供应到喷嘴，并且构造为通过搅拌清洁液来产生清洁颗粒，

其中，清洁液供应部包括：电导率仪，构造为测量清洁液的电导率；以及恒温器，构造为当清洁液的电导率降低时冷却清洁液。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其中，清洁液供应部还包括：

源供应部，构造为存储清洁液的化学品源；

去离子水供应部，构造为存储用于稀释化学品源的去离子水；以及

清洁液循环器，构造为通过使去离子水和化学品源混合来在清洁液中产生清洁颗粒。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中，清洁液循环器包括：

化学品罐，构造为存储清洁液；

循环管线，构造为使化学品罐中的清洁液循环；以及

泵，连接到循环管线并且构造为泵送清洁液，

其中，电导率仪与化学品罐结合。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其中：

清洁液循环器还包括构造为搅拌化学品罐中的清洁液的搅拌器，并且

搅拌器包括具有穿孔的多孔管，所述穿孔朝向化学品罐的顶部开口。

10.根据权利要求8所述的清洁装置，其中，恒温器连接到循环管线。

11.根据权利要求7所述的清洁装置，其中，当使去离子水和化学品源混合时，恒温器加热化学品源。