[发明专利]光学邻近修正模型、光学邻近修正方法

权利要求书

1.一种光学邻近修正模型，适于对晶圆版图进行光学邻近修正，其特征在于，所述光学邻近修正模型含有曲率校正项，所述曲率校正项适于表征物理晶圆上的图形轮廓上各位置在应力作用下的曲率变化量；

采用公式(Ⅰ)作为所述曲率校正项，

其中，ΔT为光阻阈值的变化量，c_i为拟合系数，I(x,y)为所述晶圆版图图形轮廓上各位置对应的空间光强，G_Si为高斯函数。

2.如权利要求1所述的光学邻近修正模型，其特征在于，所述曲率校正项是关于所述晶圆版图图形轮廓上各位置光强曲率和高斯函数的卷积的函数。

3.如权利要求1所述的光学邻近修正模型，其特征在于，所述光学邻近修正模型为紧密光阻模型。

4.如权利要求1所述的光学邻近修正模型，其特征在于，所述光学邻近修正模型适于负光刻胶。

5.如权利要求1所述的光学邻近修正模型，其特征在于，所述光学邻近修正模型适用于对所述晶圆版图中的孔洞层版图进行光学邻近修正。

6.如权利要求5所述的光学邻近修正模型，其特征在于，所述孔洞层版图的图形包括相邻的矩形图形和方形图形。

7.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：

提供具有图形的晶圆版图；

采用如权利要求1至3任一项所述的光学邻近修正模型，对所述晶圆版图中的图形进行光学邻近修正，获得掩膜版图。

8.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述掩膜版图上的图形适于通过负光刻胶实现图形传递。

9.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述提供具有图形的晶圆版图的步骤中，所述晶圆版图为孔洞层版图。

10.如权利要求9所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述提供具有图形的晶圆版图的步骤中，所述孔洞层版图的图形包括相邻的矩形图形和方形图形。