[发明专利]光罩清洗系统及其方法在审
申请号: | 201910042127.2 | 申请日: | 2019-01-17 |
公开(公告)号: | CN110727173A | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 颜忠逸;赖美足;林振宏;柯建州;叶宥成;林泰翔 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光罩 气体出口 清洗系统 夹持 排出 器夹 清洗 移动 | ||
1.一种光罩清洗方法,其特征在于,包含:
打开一舱(pod),该舱中具有一光罩;
通过一端效器(end effector)夹持该光罩;
将该端效器从已打开的该舱移动至一气体出口所朝向的一目的地;
使一气体自该气体出口朝向经夹持的该光罩排出;以及
当该端效器在该气体出口所朝向的该目的地时,使该端效器相对于一水平面旋转。
2.根据权利要求1所述的光罩清洗方法,其特征在于,旋转该端效器是在排出该气体期间执行。
3.根据权利要求1所述的光罩清洗方法,其特征在于,还包含:
使该气体出口相对于该水平面旋转。
4.根据权利要求1所述的光罩清洗方法,其特征在于,排出该气体包含:
经由一气体接线将该气体自一气源提供至该气体出口;
以一切换频率来切换该气体接线中的一开/关阀;以及
变化该开/关阀的该切换频率。
5.根据权利要求1所述的光罩清洗方法,其特征在于,还包含:
变化自该气体出口排出的该气体的一流动速率。
6.一种光罩清洗方法,其特征在于,包含:
打开一舱,该舱中具有一光罩;
将该光罩从已打开的该舱移动至一气体出口所朝向的一目的地;
将一气体自一气源提供至该气体出口;以及
以一随时间变化的频率来切换连接在该气源与该气体出口之间的一开/关阀。
7.根据权利要求6所述的光罩清洗方法,其特征在于,还包含:
在打开该舱之前,自动地侦测该光罩上的微粒的位置。
8.根据权利要求6所述的光罩清洗方法,其特征在于,还包含:
当该光罩在该气体出口所朝向的该目的地时,使该光罩相对于一水平面自动地旋转。
9.一种光罩清洗系统,其特征在于,包含:
一自动开舱器;
一机械臂,其具有一足以将一光罩自该自动开舱器转移至一目的地的运动范围;以及
一清洗元件,其包含:
朝向该目的地的一气体出口;
一气源;
连接该气源及该气体出口的一气体接线;以及
在该气体接线中的一流动速率控制阀,其中该流动速率控制阀经配置以控制一气体以一周期性变化的流动速率自该气源流动至该气体出口。
10.根据权利要求9所述的光罩清洗系统,其特征在于,该流动速率控制阀经配置以控制该气体的该周期性变化的流动速率从而具有一实质上正弦波的波形。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910042127.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备