[发明专利]光罩清洗系统及其方法

说明书

一种光罩清洗系统及其方法。光罩清洗方法包括以下方法。打开一舱，舱中具有光罩。通过端效器夹持光罩。将端效器从已打开的舱移动至气体出口所朝向的目的地。使气体自气体出口朝向经夹持光罩排出，以及当端效器在气体出口所朝向的目的地处时使端效器相对于水平面旋转。

技术领域

本揭露是有关于一种光罩清洗系统与光罩清洗方法。

背景技术

在半导体元件制造制程中使用微影制程，借以微影制程将光罩(亦称作遮罩或主光罩)的图案转移至靶基板，通常是具有安置于其上的感光层的半导体基板。若遮罩具有缺陷，则缺陷同样转移到靶基板作为在基板上产生的图案的缺陷。缺陷可引起所得半导体元件的良率、品质或可靠性问题。

发明内容

在本揭露的一些实施方式中，一种光罩清洗方法，包括以下步骤。打开一舱，舱中具有光罩。通过一端效器夹持光罩。将端效器自已打开的舱移动至气体出口所朝向的目的地。使气体自气体出口朝向经夹持的光罩排出。当端效器在气体出口所朝向的目的地时，使端效器相对于水平面旋转。

在本揭露的一些实施方式中，一种光罩清洗方法包括以下步骤。打开一舱，舱中具有光罩。将光罩从已打开的舱移动至出口气体朝向的一目的地。将气体从气源提供至气体出口。以随时间变化的频率来切换连接在气源与气体出口之间的一开/关阀。

在本揭露的一些实施方式中，一种光罩系统包括一自动开舱器、一机械臂及一清洗元件。机械臂具有足以将光罩从自动开舱器转移到目的地的运动范围。清洗元件包括朝向目的地的气体出口、气源、连接气源与气体出口的气体接线，以及在气体接线中的流动速率控制阀。流动速率控制阀经配置以控制气体以周期性变化的流动速率自气源流动至气体出口。

附图说明

结合附图进行阅读时得以自以下详细描述最佳地理解本揭露的态样。应注意，根据工业上的标准实务，各种特征并未按比例绘制。实际上，为了论述清楚可任意地增大或减小各种特征的尺寸。

图1为根据本揭露的一些实施例的光罩清洗方法的流程图；

图2至图6绘示根据本揭露的一些实施例的在各种阶段的光罩清洗方法；

图7绘示图6中的机械臂旋转的示例；

图8A至图8E绘示当端效器及气体出口处于各种定向时所执行的清洗操作的例示性情境；

图9绘示根据本揭露的一些实施例的例示性气体流动速率震荡；

图10绘示根据本揭露的一些实施例的例示性切换频率震荡。

具体实施方式

以下揭示内容提供用于实施所提供标的物的不同特征的许多不同实施例或实例。以下描述所述部件及布置的特定实例以简化本揭露。当然，这些仅为实例且并不意欲为限定性的。举例而言，在如下描述中第一特征在第二特征之上或在第二特征上的形成可包括其中第一及第二特征直接接触形成的实施例，且亦可包括其中额外特征可在第一及第二特征之间形成而使得第一及第二特征可不直接接触的实施例。另外，本揭露可在各种实例中重复元件符号及/或字母。此重复是出于简化及清楚目的，且其本身并不指示所论述的各种实施例及/或配置之间的关系。

另外，为了描述简单起见，可在本文中使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下方”、“在……上方”、“上方”以及其类似术语的空间相对术语，以描述如诸图中所绘示的一个元件或特征相对于另一(其他)元件或特征的关系。除了诸图中所描绘的定向以外，所述空间相对术语意欲亦涵盖在使用中或操作中的元件的不同定向。装置可以其他方式定向(旋转90度或在其他定向上)，且可同样相应地解释本文中所使用的空间相对描述词。