[发明专利]一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法

权利要求书

1.一种碱性蚀刻液再生添加剂，其特征在于，包括以下组分：尿素、硫脲、碳酸氢铵和碳酸氢钠；所述组分的重量份数为：尿素7-12份，硫脲3-6份，碳酸氢铵8-12份，碳酸氢钠15-20份；将所述碱性蚀刻液再生添加剂加入到回收的碱性蚀刻液中，再生添加剂各组分保持与新鲜的碱性蚀刻液中各组分浓度相同；新鲜的碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm；

利用所述碱性蚀刻液再生添加剂再生PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液的方法，包括以下步骤：

步骤A：回收PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液；

步骤B：通过电解提取碱性蚀刻母液中过量的铜；

步骤C：在回收的碱性蚀刻液中添加碱性蚀刻液再生添加剂，补充氨气；

步骤D：将碱性蚀刻再生液返回蚀刻生产线再次使用；

步骤E：重复所述步骤A-D，循环使用碱性蚀刻再生液。

2.一种碱性蚀刻再生液，其特征在于，所述再生液由回收的碱性蚀刻液添加如权利要求1所述的碱性蚀刻液再生添加剂组合而成。

3.根据权利要求2所述的一种碱性蚀刻再生液，其特征在于，在回收的碱性蚀刻液中加入添加剂后，添加剂各组分保持与新鲜的碱性蚀刻液中各组分浓度相同。

4.根据权利要求2～3任意一项所述的一种碱性蚀刻再生液再生利用的方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤A：回收PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液；

步骤B：通过电解提取碱性蚀刻母液中过量的铜；

步骤C：在回收的碱性蚀刻液中添加碱性蚀刻液再生添加剂，补充氨气；

步骤D：将碱性蚀刻再生液返回蚀刻生产线再次使用；

步骤E：重复所述步骤A-D，循环使用碱性蚀刻再生液。

5.根据权利要求4所述的一种碱性蚀刻再生液再生利用的方法，其特征在于，新鲜碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm。