[发明专利]一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法

说明书

本发明公开一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法，其中，所述碱性蚀刻液再生添加剂含有尿素7‑12份，硫脲3‑6份，碳酸氢铵8‑12份，碳酸氢钠15‑20份；所述碱性蚀刻再生液由回收的碱性蚀刻液添加所述添加剂组合而成。本发明根据碱性蚀刻液中不同组分的损耗不同，有针对性的调整添加剂关键组分比例，维持蚀刻液中添加剂浓度，保证蚀刻液处在最佳的蚀刻状态，并有效实现了蚀刻液的循环利用。

技术领域

本发明涉及电路板碱性蚀刻液回用技术领域，特别涉及一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法。

背景技术

印制电路板（PCB）是电子产品的重要组成部分，随着电子工业的发展，印制电路板的生产发展极为迅速，同时也造成了大量电路板蚀刻液的产生。蚀刻过程中，当蚀刻液中铜离子的浓度达到饱和时蚀刻液失去蚀刻能力，形成蚀刻废液，蚀刻废液除含有大量的铜外，其余成分与蚀刻液相似。蚀刻废液通过处理后，可回用，实现蚀刻液的循环使用。

为了提高蚀刻性能，蚀刻液药液通常添加一些添加剂，主要作用，针对蚀刻产线的高速蚀刻性，护岸，润湿等作用。行业上常用的添加剂均为新鲜子液的添加剂，由于药水不需回用，对添加剂要求不高。在蚀刻液循环再生系统中，蚀刻液完全回用，除了少量药水会被线路板夹带走，没有料出口，而添加剂中各组分在蚀刻、电解过程中的损耗程度和速度是不一样的，造成蚀刻回用液的性能不稳定。

发明内容

为了解决现有技术的缺点，本发明的主要目的是提供一种碱性蚀刻液再生添加剂，提高碱性蚀刻回用液的性能。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种碱性蚀刻液再生添加剂，包括以下组分：尿素、硫脲、碳酸氢铵和碳酸氢钠。

进一步的，所述组分的重量份数为：尿素7-12份，硫脲3-6份，碳酸氢铵8-12份，碳酸氢钠15-20份。

一种碱性蚀刻再生液，由回收的碱性蚀刻液添加如权利要求1所述的碱性蚀刻液再生添加剂组合而成。

进一步的，在回收的碱性蚀刻液中加入添加剂后，添加剂各组分保持与新鲜的碱性蚀刻液中各组分浓度相同。

一种碱性蚀刻再生液再生利用的方法，包括以下步骤：

步骤A：回收PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液；

步骤B：通过电解提取碱性蚀刻母液中过量的铜；

步骤C：在回收的碱性蚀刻液中添加碱性蚀刻再生剂，补充氨气；

步骤D：将碱性蚀刻再生液返回蚀刻生产线再次使用；

步骤E：重复所述步骤A-D，循环使用碱性蚀刻再生液。

进一步的，新鲜碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

配套蚀刻液回用系统专用的碱性蚀刻液再生添加剂，根据使用中添加剂不同组分的损耗不同，有针对性的调整关键组分比例，维持蚀刻液中添加剂浓度，保证蚀刻液处在最佳的蚀刻状态。

具体实施方式

为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现说明本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围不局限于以下所述。

实施例1

按重量份，碱性蚀刻液再生添加剂的成分为：

尿素7份，硫脲3份，碳酸氢铵8份，碳酸氢钠15份。

实施例2

按重量份，碱性蚀刻液再生添加剂的成分为：