[发明专利]层叠体及其制造方法在审
| 申请号： | 201910053118.3 | 申请日： | 2014-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN110053339A | 公开（公告）日： | 2019-07-26 |
| 发明（设计）人： | 堀池乔文;佐藤尽;高岛菜穗 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B32B27/06;B32B37/12;B32B37/24;C23C16/30;C23C16/40;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海涛;孙微 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 粘接剂层 层叠体 基材 多异氰酸酯化合物 树脂化合物 阻气层 羟基 氨基甲酸酯键 异氰酸酯基 面贴合 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种层叠体的制造方法，包括：
在第一基材的第1面上形成阻气层的工序；
在第二基材的第1面上形成粘接剂层的工序，所述粘接剂层包含分子内具有多个羟基的树脂化合物以及多异氰酸酯化合物；以及
将所述阻气层的经表面处理后的第1面与所述第二基材的形成有粘接剂层的面贴合的工序，
在所述粘接剂层的内部，所述树脂化合物的羟基与所述多异氰酸酯化合物的异氰酸酯基反应，从而进行形成氨基甲酸酯键的反应。
2.根据权利要求1所述的层叠体的制造方法，其中，所述阻气层包含Al、Ti、Si、Zn及Sn中的任一种。
3.根据权利要求1所述的层叠体的制造方法，其中，所述第一基材和所述第二基材的玻璃化转变点均为50℃以上。
4.一种层叠体，包括：
第一基材；
原子层沉积膜，其是配置于所述第一基材的第一面上的无机氧化物层；
第二基材，其配置于所述原子层沉积膜的一面上；以及
第一粘接剂层，其配置于所述原子层沉积膜与所述第二基材之间，从而粘接所述原子层沉积膜和所述第二基材。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凸版印刷株式会社，未经凸版印刷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910053118.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种啦啦操培训考级地板
- 下一篇：一种防静电类纸膜及加工方法
