[发明专利]一种可降低干扰的二级电源产生电路有效

专利信息
申请号: 201910078662.3 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109818492B 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 赵艳丽;邵博闻 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H02M1/44 分类号: H02M1/44;H02M9/04;H03K3/57
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 干扰 二级 电源 产生 电路
【说明书】:

发明提供一种可降低干扰的二级电源产生电路,电容器C0的上极板连接VPOS电源电压的输出节点以及第四PMOS管的源极,该电容器C0的下极板连接电阻R0一端以及第四NMOS管的栅极;该电阻R0的另一端连接第四NMOS管的漏极、第四PMOS管的漏极及其栅极;第四NMOS管的源极极接地;二级电源VDDI产生电路的输出端与电容器C0的上极板以及第四PMOS管的源极的连接。在进行第二阶段放电时,VDDI被抬高,N4管栅端电压NG被VDDI通过C0耦合,更好的将N4管导通,在VDDI与GND之间形成通路,可将VDDI电位快速拉低,减弱击穿问题。

技术领域

本发明涉及一种电源电路,特别是涉及一种可降低干扰的二级电源产生电路。

背景技术

如图1所示,左半部分为VPOS高压放电电路,右半部分为二级电源VDDI产生电路。高压阶段,DISENPOS置低,DISENPOSB置高,DISENPOSB电压为VDDI。由于P0(PMOS管)栅极电压置低时,导通高电压(栅电压小于源、漏任何一极电压加阈值电压时导通高电压),因此高压阶段时,P0管将VPOS电源电压的高压导通至NN2节点,NN2节点将VPOS电源电压的高压传至P1管的栅极,P1管关断。

放电第一阶段时,DISENPOS置高,电位为VDDI,DISENPOSB置低,待VPOS电源电压放电到VDDI+P0管的VT(阈值电压)时,进入第二放电阶段,这时P0管关断,NN2被拉到低电位,P1管打开,由于DISENPOSB置低,P2管的栅电压低于其源极电压,P2管导通,将VPOS放电到VDDI电位。

此电路缺陷在于,第二放电阶段时,VPOS与VDDI导通,VPOS会将VDDI电位拉高,某些情况会拉高到3V以上,与电路中负高压VNEG存在超过击穿电压的风险。

因此,需要提出一种可降低干扰的二级电源产生电路来解决上述问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种可降低干扰的二级电源产生电路,用于解决现有技术中在VPOS高压第二放电阶段时,VPOS与VDDI导通,VPOS会将VDDI电位拉高,与电路中负高压VNEG存在超过击穿电压风险的问题。

为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种可降低干扰的二级电源产生电路,所述电路至少包括:含有VPOS电源电压的高压放电电路、二级电源VDDI产生电路、电容器C0、电阻R0、第四NMOS管、第四PMOS管;所述电容器C0的上极板连接所述VPOS电源电压的输出节点以及所述第四PMOS管的源极,该电容器C0的下极板连接电阻R0一端以及第四NMOS管的栅极;该电阻R0的另一端连接所述第四NMOS管的漏极、所述第四PMOS管的漏极及其栅极;所述第四NMOS管的源极极接地;所述二级电源VDDI产生电路的输出端与所述电容器C0的上极板以及所述第四PMOS管的源极的连接。

优选地,所述高压放电电路还包括有三个PMOS管:P0管、P1管和P2管;三个NMOS管:N0管、N1管和N2管;所述P0管的源极接所述VPOS电源电压的一端,其漏极与所述P1管的栅极、N0管的漏极连接;所述N0管的源极与所述N1管的漏极连接,所述N1管的源极与所述N2管的漏极连接;所述N2管的源极接地;所述P0管的栅极与所述N1管的栅极连接;所述P1管的源极与所述VPOS电源电压的另一端连接,所述P1管的漏极与所述P2管的源极连接,所述P2管的漏极与所述VPOS电源电压的放电节点以及所述电容器C0的上极板连接。

优选地,高压阶段,所述P0管的栅极与所述N1管的栅极共同接低电位;所述P2管的栅极接高电位。

优选地,高压阶段,所述P2管的栅极电位与所述二级电源VDDI产生电路的输出端电位相同。

优选地,所述P0管栅极与所述N1管栅极接高电位,该高电位与所述二级电源VDDI产生电路的输出端电位相同;P2管的栅极接低电位。

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