[发明专利]一种富氧缺陷超薄PbBiO2

权利要求书

1.一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，由以下步骤组成：

(1)采用硝酸铅或乙酸铅为铅源；硝酸铋、醋酸铋或柠檬酸铋铵为铋源；然后再加入一定量的聚乙烯吡咯烷酮，在甘露醇和水的混合溶剂中配成溶液A；

(2)以溴代离子液体为溴源，在乙醇溶剂中配成溶液B；

(3)将步骤(2)中的溶液B，逐滴加入到步骤(1)中的溶液A中，并持续搅拌得到混合溶液C；

(4)将溶液C倒入配有聚四氟乙烯内村的高压反应釜中反应数小时，冷却、离心，再用去离子水和无水乙醇分别洗涤，烘干得到富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片催化剂。

2.如权利要求1所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，混合溶液A中的铅源：铋源：聚乙烯吡咯烷酮：甘露醇：水的用量比为：0.5mmol:0.5mmol:0.2g:3mmol:30mL。

3.如权利要求1所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，溴代离子液体或无机溴盐与无水乙醇的用量比为：0.5mmol:10mL。

4.如权利要求1或3所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的为溴代离子液体为溴化1-十六烷基-3-甲基咪唑、溴化1-十二烷基-3-甲基咪唑、溴化1-十四烷基-3-甲基咪唑、溴化1-己基-2,3-甲基咪唑、溴化1-己基-3-甲基咪唑、溴化1-烯丙基-3-丁基咪唑、溴化1-烯丙基-3-乙基咪唑、溴化1-烯丙基-3-甲基咪唑、溴化1-癸基-3-甲基咪唑、溴化1-羧乙基-3-甲基咪唑、溴化1-羧甲基-3-甲基咪唑、溴化1-胺丙基-3-甲基咪唑、溴化1-胺乙基-3-甲基咪唑、溴化1-苄基-3-甲基咪唑、溴化1-辛基-3-甲基咪唑、溴化N-丁基-N-甲基吡咯烷、溴化1-戊基-3-甲基咪唑、溴化N-辛基吡啶、溴化1-丁基-3-甲基咪唑、溴化1-丙基-3-甲基咪唑、溴化1-乙基-3-甲基咪唑、溴化1-乙基乙基醚-3-甲基咪唑、溴化1-乙基甲基醚-2-甲基咪唑、溴化1-乙烯基-3-丁基咪唑、溴化1-乙烯基-3-乙基咪唑、溴化1-乙酸乙酯基-3-甲基咪唑、溴化N-丁基吡啶、溴化N-乙基吡啶、溴化N-己基吡啶。

5.如权利要求1所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，铅源：铋源：溴源的物质的量之比为：1:1:1；持续搅拌的时间为30-60分钟。

6.如权利要求1所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，高压反应釜的反应温度为140-180℃，反应时间为12-24小时。

7.如权利要求1所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，烘干温度为50-60℃，烘干时间为12-24小时。

8.一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片，其特征在于，是通过权利要求1～7任一项所述制备方法制得的，所述超薄PbBiO₂Br纳米片富含氧缺陷且厚度约1.2nm。

9.如权利要求8所述的一种富氧缺陷超薄PbBiO₂Br纳米片的用途，其特征在于，将其用于光催化降解有机染料罗丹明B或环丙沙星。