[发明专利]具有可调光强度的深度产生系统有效
申请号: | 201910081967.X | 申请日: | 2019-01-28 |
公开(公告)号: | CN110099269B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 李季峰;吕学荣 | 申请(专利权)人: | 钰立微电子股份有限公司 |
主分类号: | H04N13/271 | 分类号: | H04N13/271;H04N13/296;H04N13/204;H04N5/225;H05B47/105;H05B47/19 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 调光 强度 深度 产生 系统 | ||
1.一种具有可调光强度的深度产生系统,其特征在于包含:
至少一光源,其中每一光源用以产生一发射光;
至少一图像获取器,其中每一图像获取器用以获取包含至少一对象反射所述发射光的至少一反射光的一图像;
一深度图产生器,耦接于所述每一图像获取器,用以根据所述图像产生一对应的深度图;及
一控制器,耦接于所述深度图产生器,用以根据所述对应的深度图中无效数据的比例,决定是否调整所述发射光的强度。
2.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于:所述控制器是根据所述对应的深度图中对应至少一对象的至少一深度,决定是否调整所述发射光的强度,且所述至少一深度会随着所述至少一对象的距离而改变。
3.如权利要求2所述的深度产生系统,其特征在于:当所述至少一深度大于一预定深度时,所述发射光的强度被所述控制器从一第一强度调整至一第二强度,且所述第二强度大于所述第一强度。
4.如权利要求2所述的深度产生系统,其特征在于:当所述至少一深度大于一预定深度时,所述控制器开启所述每一光源至一第二强度。
5.如权利要求2所述的深度产生系统,其特征在于:在所述控制器根据所述至少一深度关闭所述每一光源后的一预定时间,所述控制器开启所述每一光源且使所述发射光具有一第二强度,如果所述至少一对象的至少一深度大于一预定深度,则所述控制器继续开启所述每一光源,以及如果所述至少一深度小于所述预定深度,所述控制器再次关闭所述每一光源。
6.如权利要求2所述的深度产生系统,其特征在于:所述控制器是根据所述对应的深度图中对应所述至少一对象的至少一深度,多阶调整所述发射光的强度。
7.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于另包含:
一辅助装置,其中所述辅助装置和所述至少一图像获取器中的一图像获取器是用以检测所述对应的深度图中对应至少一对象的至少一深度,所述辅助装置不包含于所述至少一图像获取器,且所述辅助装置不会被关闭。
8.如权利要求7所述的深度产生系统,其特征在于:所述辅助装置和所述图像获取器形成一立体照相机,或是所述辅助装置和所述图像获取器形成一单点激光测距仪。
9.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于:当所述比例大于一预定比例时,所述发射光的强度被所述控制器从一第二强度调整至一第一强度,且所述第二强度大于所述第一强度。
10.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于:当所述比例大于一预定比例时,所述控制器关闭所述每一光源。
11.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于:在所述控制器根据所述比例关闭所述每一光源后的一预定时间,所述控制器开启所述每一光源且使所述发射光具有一第二强度,如果所述比例还是大于一预定比例,所述控制器再次关闭所述每一光源,以及如果所述比例小于所述预定比例,所述控制器继续开启所述每一光源。
12.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于:所述控制器是根据所述比例,多阶调整所述发射光的强度。
13.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于:所述控制器是利用至少一脉冲宽度调制信号调整所述发射光的强度。
14.如权利要求1所述的深度产生系统,其特征在于另包含:
一传感器,用以传感所述深度产生系统所处环境的环境光,其中所述控制器另根据所述环境光的强度,决定是否调整所述发射光的强度。
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