[发明专利]监测系统

说明书

本申请提供了一种监测系统，用于监测MOCVD系统中各个设备的工作，该监测系统包括：第一监测子系统，包括主参数控制模块和从参数控制模块，从参数控制模块设置在第一设备中，从参数控制模块用于对第一设备进行监测且将监测的结果发送至主参数控制模块；第二监测子系统，包括主站和从站，从站设置在第二设备中，至少一个从站用于对第二设备监测并将监测的结果发送至主站，主参数控制模块还用于将获取的监测结果发送至主站，主站还用于根据监测的结果确定第一设备以及第二设备的运行状态，第一监测子系统和第二监测子系统具有不同的协议。该监测系统解决了现有技术中的监测系统难以确定第一设备等的运行状态的问题。

技术领域

本申请涉及半导体制造领域，具体而言，涉及一种监测系统。

背景技术

金属有机化学气相沉积(MOCVD，Metal Organic Chemical Vapor Deposition)设备是外延材料生长最为关键的生产设备，属于高新技术密集型综合性产品，研究难度很大。根据市场变化情况和外延工艺对设备的更高要求，需要在设备的电气控制、反应腔体容量等方面进行优化设计和功能提升。

MOCVD设备主要由气体输送系统、加热系统、冷却系统、监测系统以及反应腔几部分组成。基于工业以太网和现场总线网络的监测系统是MOCVD设备的神经中枢，其主要功能是精确控制工艺过程中所需要的反应物物质的量，提供反应所需要的合适温度，并严格保证反应腔内压力和流量的稳定，同时对工艺过程中的各种参数进行实时监控，从而制造出可精确控制膜厚、组分和掺杂浓度的薄膜结构。

目前监测系统采用的是BECKHOFF公司基于PC控制技术理念，通讯系统采用EtherCAT-实时以太网解决方案，这是一种具有前瞻性的高端技术，是前沿控制理念的新生态产物。

但是，上述监测系统的主站难以MOCVD系统中的设备的状态进行监测，如果系统运行不正常，只能停机检查，不能直接反馈是哪个设备出现故障，检查起来费时。

在背景技术部分中公开的以上信息只是用来加强对本文所描述技术的背景技术的理解，因此，背景技术中可能包含某些信息，这些信息对于本领域技术人员来说并未形成在本国已知的现有技术。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种监测系统，以解决现有技术中的监测系统无法确定第一设备的运行状态的问题。

为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种监测系统，用于监测MOCVD系统中各个设备的工作，所述监测系统包括：第一监测子系统，包括主参数控制模块和从参数控制模块，所述从参数控制模块设置在MOCVD系统的第一设备中，所述从参数控制模块用于对所述第一设备进行监测且将监测的结果发送至所述主参数控制模块；第二监测子系统，包括主站和从站，所述从站设置在所述MOCVD系统中的第二设备中，至少一个所述从站用于对所述第二设备监测并将监测的结果发送至所述主站，所述主站还用于根据所述从站发送的监测的结果确定所述第二设备的运行状态，所述主参数控制模块还用于将获取的所述从参数控制模块的监测的结果发送至所述主站，所述主站还用于根据所述主参数控制模块发送的监测的结果确定所述第一设备的运行状态，所述第一监测子系统和第二监测子系统具有不同的协议。

进一步地，所述主参数控制模块设置在所述第二设备中。

进一步地，所述主参数控制模块还包括：数据转换子模块，用于将从所述从参数控制模块获取的监测的结果转换为符合所述第二监测子系统的协议的数据；数据发送子模块，用于将所述数据转换子模块转换得到的数据发送至所述从站。

进一步地，所述从参数控制模块有M个，M个所述从参数控制模块中，第1+Y个所述从参数控制模块与第Y个所述从参数控制模块通信连接，且第一个所述从参数控制模块与所述主参数控制模块通信连接，M≥2，1≤Y≤M-1。