[发明专利]一种光刻版清洗剂及其使用方法在审
| 申请号： | 201910087372.5 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN111484908A | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 胡夕伦;吴向龙;闫宝华;肖成峰 | 申请（专利权）人： | 山东浪潮华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/60 | 分类号： | C11D7/60;C11D7/08;C11D7/10;C11D11/00;B08B3/08;B08B3/02;B08B3/10;B08B13/00 |
| 代理公司： | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人： | 陈桂玲 |
| 地址： | 261061 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 洗剂 及其 使用方法 | ||
1.一种光刻版清洗剂，其特征在于，包括强氧化剂、强酸和水。
2.根据权利要求1所述的一种光刻版清洗剂，其特征在于，所述光刻板清洗剂中各组分的质量比例如下：强氧化剂1wt.％-10wt.％、强酸70wt.％-90wt.％、水5wt.％-20wt.％；
进一步优选的，所述光刻板清洗剂中各组分的质量比例如下：强氧化剂强氧化剂2wt.％-8wt.％、强酸75wt.％-85wt.％、水10wt.％-20wt.％；
最优选的，强氧化剂3-5wt.％、强酸78-83wt.％、水14-18wt.％。
3.根据权利要求1所述的一种光刻版清洗剂，其特征在于，所述强氧化剂为重铬酸钾、高锰酸钾、铋酸钠、高铁酸钠、高氯酸钾中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种光刻版清洗剂，其特征在于，所述强酸为浓硫酸、浓硝酸、高碘酸、高锰酸、高氯酸中的至少一种。
5.如权利要求1-4任一项所述的一种光刻版清洗剂的使用方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)对所述光刻版清洗剂搅拌后静置；
(2)将光刻版放入清洗剂中进行清洗；
(3)冲洗光刻板；
(4)刷洗光刻版；
(5)再次冲洗并烘干光刻板。
6.根据权利要求5所述的一种光刻版清洗剂的使用方法，其特征在于，步骤(1)中对所述光刻版清洗剂搅拌时间为10-30min；所述光刻版清洗剂静置至室温25℃。
7.根据权利要求5所述的一种光刻版清洗剂的使用方法，其特征在于，步骤(2)中的清洗时间为10-30min；
进一步优选的，步骤(2)中的清洗时间为20-30min。
8.根据权利要求5所述的一种光刻版清洗剂的使用方法，其特征在于，步骤(2)中将光刻版在清洗剂中进行上下晃动清洗，所述晃动的频率为30-60次/min；
进一步优选的，步骤(2)中将光刻版在清洗溶剂中进行上下晃动清洗，所述晃动的频率为50-60次/min。
9.根据权利要求5所述的一种光刻版清洗剂的使用方法，其特征在于，步骤(3)中使用去离子水冲洗光刻板的时间为1-10min；
进一步优选的，步骤(3)中使用去离子水冲洗光刻板的时间为5-10min。
10.根据权利要求5所述的一种光刻版清洗剂的使用方法，其特征在于，步骤(4)中使用毛刷蘸取乙醇刷洗光刻版表面，刷洗10-30次；
进一步优选的，步骤(4)中使用毛刷蘸取乙醇刷洗光刻版表面，刷洗20-30次。
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