[发明专利]显影液浓度测量装置及方法在审
申请号: | 201910087728.5 | 申请日: | 2019-01-29 |
公开(公告)号: | CN109632571A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 蔡在秉;李彦泽;陈仲仁;邓强;金明光;汪直超;韦智强;黄家都;何崇嘉;李德全 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G01N9/24 | 分类号: | G01N9/24;G03F7/32 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显影液 浓度计 浓度测量装置 测量模块 超声波 处理模块 辅助模块 浓度测量 测量 测量数据 管道模块 量测装置 准确度 碳酸根 光阻 两组 申请 判定 增设 | ||
本申请提出了一种显影液浓度测量装置及方法。所述显影液浓度量测装置包括:光阻测量模块、管道模块、浓度计测量模块、处理模块以及测量辅助模块。所述浓度计测量模块包括第一超声波浓度计,用以获得数据M。所述测量辅助模块包括第二超声波浓度计,用以获得数据N。所述处理模块根据所述数据M与所述数据N的差值是否处在目标范围内判定所述显影液浓度测量的否准确。本申请通过在显影液浓度测量装置增设一组超声波浓度计对显影液进行测量,通过两组测量数据的对比,进而提升显影液浓度测量装置对碳酸根浓度测量的准确度。
技术领域
本申请涉及显示技术领域,特别涉及一种显影液浓度测量装置及方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,简称TFT-LCD)在生产中大体分为阵列、成盒、模组三大工序。而在阵列工序中又分为成膜、光刻和刻蚀三大工艺。曝光和显影是光刻工艺中最为关键的两步。曝光是将掩膜板上的图案转写到光刻胶上的光化学反应。曝光后的显影就是将感光或不感光部分的光刻胶采用显影液溶除,从而显示所需要的图形。在显影过程中,为获得高分辨率、高清晰度、高稳定性和高良率的产品,必须严格地管理显影液的浓度和成分。
因此,目前亟需一种显影液浓度测量装置及方法以解决上述问题。
发明内容
本申请提供一种显影液浓度测量装置及方法,以解决当显影液浓度测量装置内存在气泡时,显影液内各成分浓度测量不准的问题。
为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:
根据本申请的一个方面,提供了一种显影液浓度测量装置,用以进行显影液中各成分浓度的测量,所述显影液包括光阻、四甲基氢氧化铵以及碳酸根,所述显影液浓度量测装置包括:
光阻测量模块,用以接收所述显影液,并对所述显影液进行光阻的浓度的测量,以获得所述光阻的浓度a;
管道模块,用以输送所述显影液;
浓度计测量模块,包括第一超声波浓度计,所述浓度计测量模块用以接收所述显影液,并对所述显影液进行测量和计算,以获得包括所述四甲基氢氧化铵的浓度b1、所述碳酸根的浓度c1的数据M;
测量辅助模块,包括第二超声波浓度计,所述测量辅助模块用以接收所述显影液,并对所述显影液进行测量,以获得包括所述四甲基氢氧化铵的浓度b2、所述碳酸根的浓度c2的数据N;
处理模块,用以接收所述数据M和数据N,并将所述数据M与所述数据N进行对比,以及根据所述数据M与所述数据N的差值是否处在目标范围内判定所述显影液浓度测量的否准确。
根据本申请一实施例,所述光阻测量模块包括:
光源,用以提供第一光线;
镜头和干涉滤光器,用以获得具有预定波长的第二光线;
检出器,用以在第二光线穿过所述显影液后,测量所述第二光线的透过率,获得所述显影液的吸光度值,计算获取所述显影液的光阻的浓度a。
根据本申请一实施例,所述光阻测量模块还包括用以将所述透过率、所述吸光度值以及所述光阻浓度a显示的显示器。
根据本申请一实施例,所述浓度计测量模块还包括导电率计和温度计;
其中,所述浓度计测量模块用以获取所述光阻的浓度a、所述四甲基氢氧化铵的浓度b1以及所述碳酸根的浓度c1的整体浓度A1,进而获取所述四甲基氢氧化铵的浓度b1和所述碳酸根的浓度c1。
根据本申请一实施例,所述第二超声波浓度计,用于获取所述光阻的浓度a、所述四甲基氢氧化铵的浓度b2以及所述碳酸根的浓度c2的整体浓度A2;
所述测量辅助模块还包括:
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