[发明专利]金属层用蚀刻剂组合物和制造导电图案的方法有效
申请号: | 201910089721.7 | 申请日: | 2019-01-30 |
公开(公告)号: | CN110117792B | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 刘仁浩;金范洙 | 申请(专利权)人: | 东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C23F1/30 | 分类号: | C23F1/30;H01L21/3213 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 杨黎峰;钟锦舜 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 蚀刻 组合 制造 导电 图案 方法 | ||
本发明的实施方式提供一种金属层用蚀刻剂组合物,包括:62‑68重量%的磷酸;6‑8重量%的硝酸;4‑6重量%的醋酸;0.2‑1.0重量%的醋酸盐;0.1‑0.3重量%的亚磷酸;和余量的水。通过使用该金属层用蚀刻剂组合物,可以制备蚀刻缺陷减少的、具有精细尺寸的导电图案。
技术领域
本发明涉及一种金属层用蚀刻剂组合物和一种使用其制造导电图案的方法,更具体地,涉及一种包括酸组分的金属层用蚀刻剂组合物和一种使用其制造导电图案的方法。
背景技术
例如,薄膜晶体管(TFT)用作半导体装置和显示装置中的驱动电路的一部分。TFT可以布置在例如有机发光显示(OLED)装置或液晶显示装置(LCD)的基板上的每个像素中,并且可以与诸如像素电极、对电极、源电极、漏电极、数据线、电源线等的布线连接。
为了制备电极或布线,可以在显示基板上形成金属层,可以在金属层上形成光致抗蚀剂,然后可以使用蚀刻剂组合物从显示基板部分地去除金属层。
为了通过减小布线电阻来防止信号传输延迟并确保布线的耐化学性和稳定性,金属层可以由彼此具有不同化学性质的不同种类的金属制成,或者可以形成为包括不同种类的导电材料的多个层。
例如,形成含银(Ag)层以实现低电阻特性,并且可以在其上进一步形成诸如氧化铟锡(ITO)的透明导电氧化物层,以改善布线的耐化学性、稳定性和透射率。
如韩国专利注册No.10-0579421中所述,无机强酸例如磷酸、硫酸等用作蚀刻剂组合物中的基本组分。然而,当使用常规蚀刻剂组合物时,存在发生金属再次吸附、残留物、表面污点等的问题。
发明内容
根据本发明的一个方面,提供一种金属层用蚀刻剂组合物,其能够解决诸如残留物、表面污点的问题,同时具有改善的蚀刻均匀性。
根据本发明的一个方面,提供一种使用该金属层用蚀刻剂组合物制造导电图案的方法。
根据本发明的一个方面,提供一种使用该金属层用蚀刻剂组合物制造显示基板的方法。
通过以下特征或构造将实现本发明构思的以上方面:
(1)一种金属层用蚀刻剂组合物,包括:62-68重量%的磷酸;6-8重量%的硝酸;4-6重量%的醋酸;0.2-1.0重量%的醋酸盐;0.1-0.3重量%的亚磷酸;和余量的水。
(2)根据上述(1)所述的金属层用蚀刻剂组合物,其中,所述醋酸盐包括选自由醋酸钠、醋酸铵、醋酸钾和醋酸钙组成的组中的至少一种。
(3)一种制造导电图案的方法,包括:在基板上形成金属层;通过使用根据上述(1)或(2)所述的金属层用蚀刻剂组合物来蚀刻所述金属层。
(4)根据上述(3)所述的制造导电图案的方法,其中所述形成金属层包括形成含银层。
(5)根据上述(4)所述的制造导电图案的方法,其中所述形成金属层还包括形成透明导电氧化物层。
(6)根据上述(5)所述的制造导电图案的方法,其中所述透明导电氧化物层包括第一透明导电氧化物层和第二透明导电氧化物层,并且所述含银层介于所述第一透明导电氧化物层和所述第二透明导电氧化物层之间。
(7)根据上述(5)所述的制造导电图案的方法,其中所述透明导电氧化物层包括选自由氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟锡锌(ITZO)、氧化镓锌(GZO)和氧化铟镓锌(IGZO)组成的组中的至少一种。
(8)根据上述(3)所述的导电图案的制造方法,还包括:在所述基板上形成薄膜晶体管;形成与所述薄膜晶体管电连接的像素电极;和在所述像素电极上形成显示层,其中所述金属层形成在所述显示层上。
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