[发明专利]一种卧式磁控镀膜生产线在审
申请号: | 201910091089.X | 申请日: | 2019-01-30 |
公开(公告)号: | CN109722639A | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 潘振强;张传勇;吴振杰;潘海城 | 申请(专利权)人: | 广东振华科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/02 |
代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 曹爱红 |
地址: | 526020 广东省肇庆市端*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空室 磁控镀膜 镀膜 抽真空 底架 产品技术领域 磁控溅射靶 镀膜真空室 薄膜镀膜 抽气机组 镀膜夹具 镀膜生产 镀膜效果 镀膜真空 加热真空 升降功能 两端部 上下料 室内部 预加热 预清洗 清洗 | ||
1.一种卧式磁控镀膜生产线,其特征在于:包括底架和安装在底架上的若干真空室,所述真空室沿着待镀工件前进的方向依次包括镀膜前清洗真空室、镀膜前加热真空室、若干镀膜真空室以及对各真空室进行抽真空的抽气机组,在生产线的前后两端部还对应设有具有升降功能的镀膜夹具上下料台,所述镀膜真空室内部设有至少两支磁控溅射靶。
2.根据权利要求1所述的卧式磁控镀膜生产线,其特征在于:所述镀膜前加热真空室内设有加热装置,所述加热装置内安装有石英灯管。
3.根据权利要求1所述的卧式磁控镀膜生产线,其特征在于:所述镀膜前清洗真空室设有离子发射装置,该离子发射装置上安装有发射板体。
4.根据权利要求3所述的卧式磁控镀膜生产线,其特征在于:所述发射板体通过RF电源输入高频电压后对待镀工件进行离子清洗。
5.根据权利要求1所述的卧式磁控镀膜生产线,其特征在于:所述镀膜真空室设有两支圆柱状的磁控溅射靶,两磁控溅射靶之间设有用于阻隔靶材污染的隔板。
6.根据权利要求1所述的卧式磁控镀膜生产线,其特征在于:所述抽气机组上设有节流阀,所述节流阀安装有用于调节镀膜时抽真空气流大小的旋转挡板机构。
7.根据权利要求1所述的卧式连续溅射镀膜设备,其特征在于:所述镀膜夹具上下料台设有升降机构,所述升降机构安装有自润滑轴套。
8.根据权利要求1所述的卧式连续溅射镀膜设备,其特征在于:所述生产线还配备有镀膜夹具运送车。
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