[发明专利]图案描绘装置、图案描绘方法、以及元件制造方法

权利要求书

1.一种图案描绘装置，其一面根据图案信息对来自光源装置的光束进行强度调变，一面将上述光束投射至基板上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于上述基板上描绘图案，且具备：

描绘单元，其具有光束扫描部及反射光检测部，所述光束扫描部包含为了实现上述光束的向上述主扫描方向的扫描而使来自上述光源装置的上述光束偏向的偏向构件，上述反射光检测部透过上述光束扫描部的上述偏向构件而对上述光束被投射至上述基板时产生的反射光进行光电检测；

光束强度调变部，其以于利用既定材料预先形成于上述基板上的第1图案的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案的至少一部分的方式，根据上述图案信息而控制上述光束的强度调变；及

测量部，其于在上述基板上描绘上述第2图案的期间，根据自上述反射光检测部输出的检测信号而测量上述第1图案与上述第2图案的相对的位置关系；

上述检测信号，包含上述反射光检测部对反射光进行光电检测的信号，该反射光是于上述第1图案的至少一部分重迭地描绘上述第2图案的至少一部分时产生的。

2.根据权利要求1所述的图案描绘装置，其

进而具备对准系统，所述对准系统检测以与上述基板上所形成的上述第1图案固定的位置关系形成于上述基板上的对准用标记，且根据上述标记的检测位置，于利用上述光束的扫描的上述第2图案的描绘之前推断上述应描绘的上述第2图案与上述第1图案的相对的位置误差。

3.根据权利要求2所述的图案描绘装置，其中，

上述光束强度调变部以减少藉由上述对准系统推断的上述相对的位置误差的方式，修正根据上述第2图案的上述图案信息的上述光束的描绘位置，

上述测量部将与上述所测量出的上述第1图案的位置相关的信息和藉由上述光束强度调变部修正描绘位置而描绘的上述第2图案的位置加以比较，求出上述第1图案与上述第2图案的相对的残留位置误差。

4.根据权利要求1所述的图案描绘装置，其

进而具备修正部，所述修正部根据上述测量部所测量出的上述相对的位置关系，而修正所描绘的上述第2图案的描绘状态。

5.根据权利要求4所述的图案描绘装置，

上述修正部根据上述相对的位置关系，而至少进行上述图案信息的修正、利用上述光束强度调变部所得的上述光束的描绘位置、上述第2图案的倍率修正、及上述第2图案的形状修正中的任一者。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的图案描绘装置，其中，

上述偏向构件藉由上述光束强度调变部进行强度调变的上述光束入射的旋转多面镜或摆动反射镜，

上述光束扫描部具备扫描用透镜系统，所述扫描用透镜系统藉由上述旋转多面镜或上述摆动反射镜而偏向的上述光束入射，以远心的状态将上述光束投射至上述基板上。

7.根据权利要求1-5中任一项所述的图案描绘装置，其中，

上述第1图案包含以与上述第2图案的至少一部分重迭的方式设置的虚设图案。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的图案描绘装置，其中，

用以描绘上述第2图案的上述图案信息包含以与上述第1图案的至少一部分重迭的方式描绘的虚设图案的信息。

9.根据权利要求1-5中任一项所述的图案描绘装置，其中，

上述第1图案包含构成电子元件的正式图案与虚设图案，

用以描绘上述第2图案的上述图案信息包含以与上述第1图案的上述虚设图案的至少一部分重迭的方式描绘的虚设图案的信息。