[发明专利]一种石墨片表面绝缘的处理方法及石墨片在审
| 申请号： | 201910097513.1 | 申请日： | 2019-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN109694259A | 公开（公告）日： | 2019-04-30 |
| 发明（设计）人： | 任泽永;任泽明;熊婷 | 申请（专利权）人： | 广东思泉新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/00 | 分类号： | C04B41/00;C04B41/80;H05K7/20 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 罗晓林;杨桂洋 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石墨片 氧化石墨烯层 表面绝缘 等离子体轰击 等离子轰击 表面改性 表面形成 氢气 水蒸汽 绝缘 良率 氧气 生产 | ||
【权利要求书】：
1.一种石墨片表面绝缘的处理方法，包括以下步骤：
将石墨片放置在PECVD设备中，输入氧气、氢气或者水蒸汽，用等离子体轰击石墨片表面，使得石墨片表面改性，在石墨片表面形成绝缘的氧化石墨烯层。
2.根据权利要求1所述的石墨片表面绝缘的处理方法，其特征在于，所述对石墨片有每个表面都进行相同的等离子轰击，使得石墨片的每个表面都形成相同厚度的氧化石墨烯层。
3.根据权利要求2所述的石墨片表面绝缘的处理方法，其特征在于，所述氧化石墨烯层的厚度为100-200nm。
4.根据权利要求3所述的石墨片表面绝缘的处理方法，其特征在于，所述石墨片为人工合成石墨片或者天然石墨片。
5.根据权利要求4所述的石墨片表面绝缘的处理方法，其特征在于，所述氧化石墨烯层的厚度小于石墨片的厚度的一半。
6.一种石墨片，根据权利要求1-5中任一项所述的处理方法处理得到，包括石墨片和在该石墨片表面生成的绝缘的氧化石墨烯层。
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