[发明专利]铜清洗剂

说明书

本发明提供一种铜清洗剂，以所述铜清洗剂为100重量份为基础，包括：40～65重量份的去离子水；25～35重量份的丙酮缩甘油；0.001～2重量份的表面活性剂；以及0.01～2重量份的缓蚀剂。

技术领域

本发明涉及一种铜清洗剂，尤其涉及一种可去除高分子复合产物的铜清洗剂。

背景技术

既有大尺寸TFT-LCD显示器普遍应用铜制程工艺，当前在4道光罩技术中，背沟道蚀刻时，易受到一些铜、光阻及干蚀刻气体结合生成的高分子副产物影响，导致金属表面变色或电性偏移。一般清洗制程，使用超纯水或去离子水，对于高分子副产物去除能力有限。目前，有应用光阻剥离剂进行清洗，但无法根本解决金属表面污染问题。

为了解决现有技术所存在的问题，亟需一种铜清洗剂，可去除铜与光阻及干蚀刻气体结合生成复合产物，以提升产品良率。

发明内容

基于上述，本发明的目的在于提供了一种铜清洗剂，可去除铜与光阻及干蚀刻气体结合生成复合产物，达到提升产品良率的目的。

为了实现上述目的，本发明提供一种铜清洗剂，以所述铜清洗剂为100重量份为基础，包括：40～65重量份的去离子水；25～35重量份的丙酮缩甘油；0.001～2重量份的表面活性剂；以及0.01～2重量份的缓蚀剂。

依据本发明的一实施例，所述的铜清洗剂，其pH值为8～10。

依据本发明的一实施例，所述表面活性剂包括一酰胺类化合物，所述酰胺类化合物包括但不限于下列至少一者：乙二醇酰胺、单乙醇酰胺、以及聚氧乙烯烷醇酰胺。

依据本发明的一实施例，所述表面活性剂包括一季铵盐类化合物，所述季铵盐类化合物包括但不限于下列至少一者：氯化苄基三乙基铵、硫酸氢丁四基铵、十二烷基三甲基氯化铵、十二烷基二甲基苄基氯化铵、十八烷基二甲基羟乙基硫酸铵、以及十八烷基二甲基羟乙基过氯酸铵。

依据本发明的一实施例，所述缓蚀剂包括一唑类化合物，所述唑类化合物包括但不限于下列至少一者：苯并三氮唑、1H-咪唑、1H-四唑、5-苯基-1H-四唑、5-氨基-1H-四唑、3-氨基-1H-三唑、以及5-羧基苯并三氮唑。

依据本发明的一实施例，以所述铜清洗剂为100重量份为基础，所述铜清洗剂包括：60～65重量份的去离子水；28～32.5重量份的丙酮缩甘油；0.5～1.5重量份表面活性剂；以及0.5～1重量份缓蚀剂。

依据本发明的一实施例，以所述铜清洗剂为100重量份为基础，所述铜清洗剂包括：65重量份的去离子水；32.5重量份的丙酮缩甘油；1.5重量份表面活性剂；以及1重量份缓蚀剂。

本发明所提供的铜清洗剂，可去除铜与光阻及干蚀刻气体结合生成复合产物，达到提升产品良率的目的。

附图说明

无。

具体实施方式

在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

本发明提供了一种铜清洗剂，可去除铜与光阻及干蚀刻气体结合生成复合产物，达到提升产品良率的目的。

本发明之铜清洗剂，以中性溶剂丙酮缩甘油及去离子水为主要溶剂，添加一定胺类及盐类腐蚀抑制剂，用以去除高分子复合产物。