[发明专利]两面带低反射膜的制造方法

权利要求书

1.一种两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，它是在玻璃基板的两面上形成有低反射膜的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，在所述玻璃基板的一个面的外周部通过印刷形成有遮光部，其特征在于，

在所述玻璃基板的形成有所述遮光部的面上通过干式成膜法整面形成低反射膜后，在所述玻璃基板的没有形成所述遮光部的面上通过干式成膜法整面形成低反射膜，从而在玻璃基板两面形成有低反射膜。

2.如权利要求1所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，对所述玻璃基板预先实施化学强化处理。

3.如权利要求1或2所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述玻璃基板的没有形成所述遮光部的面的低反射膜上形成防污膜。

4.如权利要求1所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述低反射膜是将由高折射率材料构成的膜和由低折射率材料构成的膜交替层叠而得的层叠膜。

5.如权利要求4所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述层叠膜中，所述高折射率材料是氧化铌或氧化钽，所述低折射率材料是氧化硅。

6.如权利要求4所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述层叠膜中，所述高折射率材料是氮化硅，所述低折射率材料包含Si和Sn的混合氧化物、Si和Zr的混合氧化物、Si和Al的混合氧化物中的任一种。

7.如权利要求4所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述层叠膜通过将由所述高折射率材料构成的膜和由所述低折射率材料构成的膜交替层叠2层以上6层以下而成。

8.如权利要求1所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述低反射膜通过溅射法成膜。

9.如权利要求3所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述防污膜由含氟有机硅化合物构成。

10.如权利要求9所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述含氟有机硅化合物具有选自多氟聚醚基、多氟亚烷基及多氟烷基的一个以上的基团。

11.如权利要求3所述的两面带低反射膜的玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述防污膜通过真空蒸镀法成膜。