[发明专利]太阳电池在审

专利信息
申请号: 201910105210.X 申请日: 2019-02-01
公开(公告)号: CN111524982A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 李华;靳玉鹏 申请(专利权)人: 泰州隆基乐叶光伏科技有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/068;H01L31/18;H01L31/20
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 郭栋梁
地址: 225300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 太阳电池
【权利要求书】:

1.一种太阳电池,其特征在于,包括p型基底,所述p型基底的正面依次设置有n型掺杂层及正面钝化减反射层,所述p型基底的背面依次设置有背面隧穿钝化层、p型掺杂膜层及背面介质膜层;所述正面钝化减反射层上形成有正面电极,所述正面电极贯穿所述正面钝化减反射层并与所述n型掺杂层接触;所述背面介质膜层上形成有背面铝电极,所述背面铝电极贯穿所述背面介质膜层并与所述p型掺杂膜层接触。

2.根据权利要求1所述的太阳电池,其特征在于,所述背面铝电极包括多条平行设置的铝栅线。

3.根据权利要求2所述的太阳电池,其特征在于,所述铝栅线的宽度为50um~200um,相邻所述铝栅线之间的距离为500-2000um。

4.根据权利要求1-3任一项所述的太阳电池,其特征在于,所述背面隧穿钝化层的材料包括氧化硅、氧化铝、氧化钛、氮化硅、氮氧化硅、碳化硅和非晶硅中的任一种。

5.根据权利要求1-3任一项所述的太阳电池,其特征在于,所述背面隧穿钝化层的厚度为1-5nm。

6.根据权利要求1-3任一项所述的太阳电池,其特征在于,p型掺杂膜层的材料包括多晶硅。

7.根据权利要求6所述的太阳电池,其特征在于,p型掺杂膜层的材料还包括非晶硅。

8.根据权利要求6所述的太阳电池,其特征在于,所述p型掺杂膜层掺杂有IIIA族元素。

9.根据权利要求6所述的太阳电池,其特征在于,所述p型掺杂膜层的厚度为10-1000nm。

10.根据权利要求8所述的太阳电池,其特征在于,所述p型掺杂膜层的掺杂浓度大于1×1018个/cm3

11.根据权利要求1-3任一项所述的太阳电池,其特征在于,所述背面介质膜层的材料包括氧化硅、氧化铝、氧化钛、氮化硅、氮氧化硅和碳化硅中的一种或多种组合。

12.根据权利要求11所述的太阳电池,其特征在于,所述背面介质膜层的厚度为50-200nm。

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