[发明专利]一种薄膜体声波谐振器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910111345.7 申请日: 2019-02-12
公开(公告)号: CN109861662A 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 于洪宇;唐楚滢;王亮;何明浩 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02;H03H9/02;H03H9/17
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 支撑层 薄膜体声波谐振器 谐振器本体 弯折结构 器件区 子区域 支撑体 制备 背离 残余应力 谐振频率 交叠 弯折 延伸
【说明书】:

发明公开了一种薄膜体声波谐振器及其制备方法。该薄膜体声波谐振器包括:支撑层、谐振器本体和支撑体;薄膜体声波谐振器包括器件区和围绕器件区的非器件区,谐振器本体位于器件区内的支撑层上;非器件区内的支撑层包括多个条状的弯折结构,弯折结构向背离谐振器本体的一侧弯折;非器件区包括第一子区域和围绕第一子区域的第二子区域,支撑体设置于第二子区域内的所述支撑层背离谐振器本体的一侧;其中,弯折结构的延伸方向与支撑层的径向方向之间的夹角不为零,且位于谐振器本体同一侧的弯折结构相互之间无交叠。本实施例提供的薄膜体声波谐振器,可以得到厚度更小、残余应力更低的支撑层,进而提高谐振频率。

技术领域

本发明实施例涉及声波谐振器技术领域,尤其涉及一种薄膜体声波谐振器及其制备方法。

背景技术

近年来,随着移动通信系统行业飞速发展,对在射频频段工作的滤波器提出了越来越严格的要求,薄膜体声波谐振器是一种具有高品质因数、低损耗、高声速等高性能的谐振器,受到了越来越多的关注。

薄膜体声波谐振器通常包括谐振器本体和用于支撑谐振器本体的支撑层。谐振器本体的周期性振动可以激励出声波,声波在谐振器本体中传播时发生多次反射,并相互干涉形成驻波,进而产生谐振现象。为获得最小的声波损失和最大的Q值,应尽可能地将声波留在谐振器本体中。谐振器本体的其中一侧的表面与空气接触,通常,固体的声波阻抗大约比空气的声波阻抗高5个量级,因此当声波传播到固体和空气接触面时,99%以上的声波会被反射回谐振器本体,声波损失较小。但是,谐振器本体的另一侧的表面与支撑层接触,支撑层为固体结构,会导致相当一部分的声波散射出去;并且,支撑层的厚度越大,散射损失的声波也相对越多。

因此,为减小声波损失,需要尽可能地减小支撑层的厚度。但是,在谐振器本体工作时,谐振器本体振动会导致支撑层发生形变,如果支撑层的厚度太小,支撑层中的应力无法及时释放,容易导致支撑层断裂。

发明内容

本发明提供一种薄膜体声波谐振器及其制备方法,可以减小支撑层厚度,提高薄膜体声波谐振器的谐振频率。

第一方面,本发明实施例提供了一种薄膜体声波谐振器,包括:支撑层、谐振器本体和支撑体;

所述薄膜体声波谐振器包括器件区和围绕所述器件区的非器件区,所述谐振器本体位于所述器件区内的所述支撑层上;

所述非器件区内的所述支撑层包括多个条状的弯折结构,所述弯折结构向背离所述谐振器本体的一侧弯折;

所述非器件区包括第一子区域和围绕所述第一子区域的第二子区域,所述支撑体设置于所述第二子区域内的所述支撑层背离所述谐振器本体的一侧;

其中,所述弯折结构的延伸方向与所述支撑层的径向方向之间的夹角不为零,且位于所述谐振器本体同一侧的所述弯折结构相互之间无交叠。

进一步地,所述支撑层的材料为氮化硅或氧化硅;所述支撑体的材料为单晶硅。

进一步地,所述支撑层的厚度大于或等于0.1μm,且小于或等于3.0μm。

进一步地,所述谐振器本体包括依次层叠于所述支撑层上的第一金属层、压电材料层以及第二金属层。

进一步地,所述支撑层边缘上的任一边沿点到所述支撑层几何中心的距离为第一距离;沿所述边沿点与几何中心的形成的线段延伸方向,所述边沿点到所述器件区的边缘的距离为第二距离;所述第二距离与所述第一距离的比值的取值范围大于或等于0.3,且小于或等于0.5。

进一步地,沿垂直于所述弯折结构的延伸方向,所述弯折结构的截面为“V”型或“U”型。

进一步地,所述弯折结构的宽度的取值小于或等于15μm,所述弯折结构的弯折距离的取值小于或等于5μm。

第二方面,本发明实施例还提供了一种薄膜体声波谐振器的制备方法,包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南方科技大学,未经南方科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910111345.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top