[发明专利]一种卷绕式真空镀膜机

权利要求书

1.一种卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

该真空镀膜机包括有再处理箱(1)及镀膜箱，再处理箱(1)包括起卷辊(2)、收卷辊(9)和再处理系统，所述再处理系统包括有多个展平辊(5)及温度控制辊，所述温度控制辊分别为第一温度控制辊(4)、第二温度控制辊(6)和第三温度控制辊(7)；所述镀膜箱包括镀膜室，镀膜室包括第一镀膜室(21)、第二镀膜室(14)和第三镀膜室(10)。

2.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述第一镀膜室(21)中包括第一镀膜辊(20)和第一镀膜室磁控靶(19)，所述第一镀膜室磁控靶(19)设置在所述第一镀膜辊(20)正下方位置。

3.根据权利要求2所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述第二镀膜室(14)中包括第二镀膜辊(17)和蒸发源(16)，所述蒸发源(16)设置在所述第二镀膜辊(17)正下方位置。

4.根据权利要求3所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述第三镀膜室(10)中包括第三镀膜辊(13)和第三镀膜室磁控靶(11)，所述第三镀膜室磁控靶(11)设置在所述第三镀膜辊(13)正下方位置。

5.根据权利要求4所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述再处理箱(1)与镀膜箱之间设置有隔板(22)，所述第一镀膜辊(20)、第二镀膜辊(17)和第三镀膜辊(13)设置在隔板(22)上，各镀膜辊与隔板(22)的连接位置处存在间隙，间隙宽度为1-3mm。

6.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述再处理箱(1)中还设置有两个传感器辊，分别为第一传感器辊(3)和第二传感器辊(8)，所述第一传感器辊(3)放置在放卷辊(2)的下方，第二传感器辊(8)放置在收卷辊(9)的上方。

7.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述温度控制辊表面温度范围为0-800℃，其发热方式为内部发热丝产热。

8.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述再处理箱(1)中设有多个通气管道，通气管道均充入惰性保护气体；

所述第一镀膜室(20)、第二镀膜室(17)和第三镀膜室(13)中设有布气管道，分别为第一布气管道(18)、第二布气管道(15)和第三布气管道(12)，其中第一布气管道(18)和第三布气管道(12)充入氩气工作气体，所述第二布气管道(15)充入惰性保护气体。

9.根据权利要求1所述的卷绕式真空镀膜机，其特征在于：

所述再处理箱(1)、第一镀膜室(21)、第二镀膜室(14)和第三镀膜室(10)中均设置有真空计(23)。

10.一种包括权利要求1-9任意一项所述的真空镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1：将基材卷在放卷辊上，并依次卷绕过传感器辊、镀膜辊和温度控制辊，最终收入到收卷辊中，基材在传感器辊和镀膜辊之间，镀膜辊和温度控制辊之间卷绕过多个平展辊；

S2：根据所镀膜基材的特征设置每种材料的工艺参数，包括真空度、工作气体种类及流量、镀膜温度、速度及再处理温度，对基材进行镀膜。