[发明专利]一种扇出型封装器件有效

专利信息
申请号: 201910113234.X 申请日: 2019-02-14
公开(公告)号: CN109920765B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 王耀尘;白祐齐;石磊;夏鑫 申请(专利权)人: 南通通富微电子有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/498
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 李庆波
地址: 226000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 扇出型 封装 器件
【说明书】:

本申请公开了一种扇出型封装器件,所述封装器件包括:至少一个芯片,所述芯片包括正面和背面,所述正面设置有焊盘,且对应所述焊盘的位置设置有光阻;塑封层,覆盖所述芯片的侧面及正面,且不覆盖所述芯片的背面。通过上述方式,本申请能够增强对芯片正面的保护。

技术领域

本申请涉及半导体封装技术领域,特别是涉及一种扇出型封装器件。

背景技术

扇出型封装由于具有小型化、低成本和高集成度等优点,正迅速成为新型半导体封装技术中的热点。

现有的扇出型封装通常是将芯片的背面嵌入塑封层中,然后在芯片的正面形成介电层和重布线层,重布线层与芯片的正面的焊盘之间电连接。

本申请的发明人在长期研究过程中发现,现有的扇出型封装器件在芯片的四周侧面和背面均有塑封料保护,但在芯片的正面仅有介电层保护,当其受到应力的冲击时容易造成芯片的正面线路受损,进而导致功能失效,降低芯片的良率,影响产品的品质。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种扇出型封装器件,能够增强对芯片正面的保护。

为解决上述技术问题,本申请采用的一个技术方案是:提供一种扇出型封装器件,所述封装器件包括:至少一个芯片,所述芯片包括正面和背面,所述正面设置有焊盘,且对应所述焊盘的位置设置有光阻;塑封层,覆盖所述芯片的侧面及正面,且不覆盖所述芯片的背面。

其中,所述塑封层远离所述芯片的一侧在同一水平面上。

其中,所述塑封层覆盖所述光阻;或者,所述塑封层与所述光阻在同一水平面上,且所述光阻从所述塑封层中露出。

其中,所述芯片的厚度小于等于100微米。

其中,所述封装器件还包括:载盘,位于所述芯片的所述背面;胶膜,位于所述载盘与所述芯片之间,用于固定所述载盘和所述芯片。

为解决上述技术问题,本申请采用的另一个技术方案是:提供一种扇出型封装器件,所述封装器件包括:至少一个芯片,所述芯片包括正面和背面,所述正面设置有焊盘;塑封层,覆盖所述芯片的侧面及正面,且对应所述焊盘的位置设置有连通所述焊盘和外界的蚀刻过孔。

其中,所述塑封层远离所述芯片的一侧在同一水平面上。

其中,所述封装器件还包括:金属再布线层,位于所述塑封层远离所述芯片一侧,且与所述焊盘电连接;所述金属再布线层远离所述芯片的一侧在同一水平面上。

其中,所述封装器件还包括:第一介电层,位于所述金属再布线层与所述塑封层之间,且所述第一介电层对应所述焊盘的位置设置有第一开口;第二介电层,位于所述金属再布线层远离所述芯片一侧,且所述第二介电层对应所述金属再布线层一侧设置有第二开口;焊球,位于所述第二开口内,所述焊球、所述金属再布线层电连接。

其中,所述第一介电层还延伸至所述蚀刻过孔的内壁,且覆盖部分所述焊盘。

其中,所述封装器件还包括:保护膜,位于所述芯片的背面。

本申请的有益效果是:区别于现有技术的情况,本申请所提供的扇出型封装器件中芯片的背面固定在载盘的第一侧上,芯片的正面设置有焊盘,且对应焊盘的位置设置有光阻;载盘的第一侧上形成的塑封层覆盖芯片及光阻,此时芯片的正面除光阻外的区域均被塑封层覆盖;芯片正面的塑封层可以很大程度上降低芯片受到应力冲击时对芯片正面线路的影响,提高了芯片的良率,且提高了产品的品质。

此外,由于芯片正面的塑封层在同一水平面上,从而降低了现有技术中芯片和塑封层的交界处存在的高度差;后期在该塑封层表面上形成的金属再布线层远离芯片的一侧也可处在同一水平面上,从而降低了现有技术中金属再布线层存在的高低差。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通通富微电子有限公司,未经南通通富微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910113234.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top