[发明专利]一种形成显示面板中挡墙结构的方法

权利要求书

1.一种形成显示面板中挡墙结构的方法，其特征在于，该方法包括：

步骤S1：提供具有多个微发光结构的第一基板，相邻的微发光结构之间具有间隙结构；

步骤S2：提供第二基板并于第二基板上形成多个间隔设置的挡墙结构；及

步骤S3：利用转移设备将各个挡墙结构分别转置于对应地间隙结构内以阻挡相邻的微发光结构发出的光线发生混色。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该步骤S2包括：

步骤S20：提供第二基板；

步骤S21：于该第二基板上形成平坦层；

步骤S22：于该平坦层上形成多个凹陷结构，该多个凹陷结构间隔设置，每个凹陷结构包括凹槽和位于该凹槽一侧的第一凸台；

步骤S23：于每个凹槽内形成牺牲结构，该牺牲结构包括中间区域和位于该中间区域一侧的第一周边区域，该第一周边区域与该第一凸台相接；

步骤S24：于每个牺牲结构的中间区域上形成第一挡墙；

步骤S25：于该第二基板上形成支架层，并图案化该支架层以于该第一挡墙上形成沿第一方向排列的多个平台部、于该第一周边区域及该第一凸台上形成沿第一方向排列的多个第一水平部以及于该第一挡墙的第一侧壁上形成沿第一方向排列的多个第一垂直部，每个第一垂直部均连接一个对应的平台部及一个第一水平部，且该平台部于第二方向与该第一挡墙的接触长度等于该第一挡墙于第二方向的长度，其中，第二方向与第一方向相互垂直；

步骤S26：于每个相连的平台部及第一垂直部上形成第二挡墙；

步骤S27：移除该牺牲结构以悬空由该第一挡墙、该第一垂直部、该平台部以及该第二挡墙构成的该挡墙结构。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该步骤S2包括：

步骤S20’：提供第二基板；

步骤S21’：于该第二基板上形成平坦层；

步骤S22’：于该平坦层上形成多个凹陷结构，该多个凹陷结构间隔设置，每个凹陷结构包括凹槽和位于该凹槽一侧的第一凸台；

步骤S23’：于每个凹槽内形成牺牲结构，该牺牲结构包括中间区域和位于该中间区域一侧的第一周边区域，该第一周边区域与该第一凸台相接；

步骤S24’：于每个牺牲结构的中间区域上形成第一挡墙；

步骤S25’：于该第二基板上形成支架层，并图案化该支架层以于该第一挡墙上形成平台部、于该第一周边区域及该第一凸台上形成第一水平部以及于该第一挡墙的第一侧壁上形成第一垂直部，且该第一垂直部连接该平台部及该第一水平部，该平台部于第一方向与该第一挡墙的接触长度等于该第一挡墙于第一方向的长度，且该平台部于第二方向与该第一挡墙的接触长度等于该第一挡墙于第二方向的长度，其中，第二方向与第一方向相互垂直；

步骤S26’：于相连的该平台部及该第一垂直部上形成第二挡墙；

步骤S27’：移除该牺牲结构以悬空由该第一挡墙、该第一垂直部、该平台部以及该第二挡墙构成的该挡墙结构。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该步骤S2包括：

步骤P20：提供第二基板；

步骤P21：于该第二基板上形成平坦层；

步骤P22：于该平坦层上形成多个凹陷结构，该多个凹陷结构间隔设置，每个凹陷结构包括凹槽和位于该凹槽一侧的第一凸台；

步骤P23：于每个凹槽内形成牺牲结构，该牺牲结构包括中间区域和位于该中间区域一侧的第一周边区域，该第一周边区域与该第一凸台相接；

步骤P24：于每个牺牲结构的中间区域上形成第一挡墙；

步骤P25：于该第二基板上形成支架层，并图案化该支架层以于该第一挡墙上形成沿第一方向排列的多个平台部、于该第一周边区域及该第一凸台上形成沿第一方向排列的多个第一水平部以及于该第一挡墙的第一侧壁上形成沿第一方向排列的多个第一垂直部，每个第一垂直部均连接一个对应的平台部及一个第一水平部，且该平台部于第二方向与该第一挡墙的接触长度等于该第一挡墙于第二方向的长度，其中，第二方向与第一方向相互垂直；

步骤P26：移除该牺牲结构以悬空由该第一挡墙、该第一垂直部及该平台部构成的该挡墙结构。