[发明专利]一种形成显示面板中挡墙结构的方法在审

专利信息
申请号: 201910115825.0 申请日: 2019-02-15
公开(公告)号: CN109713093A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 蓝伊奋;吴宗典 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L27/15
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;林媛媛
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 挡墙结构 发光结构 第二基板 间隙结构 显示面板 转移设备 微发光二极管 第一基板 间隔设置 透明电极 短路 再利用 黄光 混色 显影 阻挡 脱离
【说明书】:

发明是关于一种形成显示面板中挡墙结构的方法,该方法包括:步骤S1:提供具有多个微发光结构的第一基板,相邻的微发光结构之间具有间隙结构;步骤S2:提供第二基板并于第二基板上形成多个间隔设置的挡墙结构;及步骤S3:利用转移设备将各个挡墙结构分别转置于对应地间隙结构内以阻挡相邻的微发光结构发出的光线发生混色。本发明中先于第二基板上形成挡墙结构,然后再利用转移设备将各个挡墙结构转移至各个相邻微发光结构之间的间隙结构内,如此即可避免于黄光、显影的过程中使得微发光二极管上的透明电极常发生脱离或短路。

技术领域

本发明涉及一种形成挡墙结构的方法,尤其涉及一种形成显示面板中挡墙 结构的方法。

背景技术

微发光二极管显示面板是一种使用微发光二极管元件组成显示阵列的显 示面板。为了避免相邻的微发光二极管发出的光线发生混色,通常会在相邻的 微发光二极管之间设置挡墙结构。于现有技术中,一般都是在已具有微发光二 极管的基板上利用沉积、黄光、显影的方式直接于各个相邻的微发光二极管之 间形成挡墙结构,在此过程中,微发光二极管上的透明电极常易于发生脱离 (peeling)或短路从而使得微发光二极管不能正常发光。

发明内容

为改善上述问题,本发明提供一种形成显示面板中挡墙结构的方法。

根据本发明的一个方面,一种形成显示面板中挡墙结构的方法,该方法包 括:

步骤S1:提供具有多个微发光结构的第一基板,相邻的微发光结构之间具 有间隙结构;

步骤S2:提供第二基板并于第二基板上形成多个间隔设置的挡墙结构;及

步骤S3:利用转移设备将各个挡墙结构分别转置于对应地间隙结构内以阻 挡相邻的微发光结构发出的光线发生混色。

作为可选的技术方案,该步骤S2包括:

步骤S20:提供第二基板;

步骤S21:于该第二基板上形成平坦层;

步骤S22:于该平坦层上形成多个凹陷结构,该多个凹陷结构间隔设置, 每个凹陷结构包括凹槽和位于该凹槽一侧的第一凸台;

步骤S23:于每个凹槽内形成牺牲结构,该牺牲结构包括中间区域和位于 该中间区域一侧的第一周边区域,该第一周边区域与该第一凸台相接;

步骤S24:于每个牺牲结构的中间区域上形成第一挡墙;

步骤S25:于该第二基板上形成支架层,并图案化该支架层以于该第一挡 墙上形成沿第一方向排列的多个平台部、于该第一周边区域及该第一凸台上形 成沿第一方向排列的多个第一水平部以及于该第一挡墙的第一侧壁上形成沿 第一方向排列的多个第一垂直部,每个第一垂直部均连接一个对应的平台部及 一个第一水平部,且该平台部于第二方向与该第一挡墙的接触长度等于该第一 挡墙于第二方向的长度,其中,第二方向与第一方向相互垂直;

步骤S26:于每个相连的平台部及第一垂直部上形成第二挡墙;

步骤S27:移除该牺牲结构以悬空由该第一挡墙、该第一垂直部、该平台 部以及该第二挡墙构成的该挡墙结构。

作为可选的技术方案,该步骤S2包括:

步骤S20’:提供第二基板;

步骤S21’:于该第二基板上形成平坦层;

步骤S22’:于该平坦层上形成多个凹陷结构,该多个凹陷结构间隔设置, 每个凹陷结构包括凹槽和位于该凹槽一侧的第一凸台;

步骤S23’:于每个凹槽内形成牺牲结构,该牺牲结构包括中间区域和位 于该中间区域一侧的第一周边区域,该第一周边区域与该第一凸台相接;

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