[发明专利]多层印刷电路板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910119235.5 申请日: 2014-03-17
公开(公告)号: CN110113868B 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: S·伊克塔尼;D·克斯滕 申请(专利权)人: 桑米纳公司
主分类号: H05K1/11 分类号: H05K1/11;H05K1/02;H05K3/42
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;刘久亮
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多层 印刷 电路板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种多层印刷电路板,所述多层印刷电路板包括:

第一子复合结构;

第二子复合结构;

第一介电层,所述第一介电层位于所述第二子复合结构的第一表面和所述第一子复合结构之间;

第三子复合结构;

第二介电层,所述第二介电层位于所述第二子复合结构的第二表面和所述第三子复合结构之间;

第一镀制抗蚀剂,所述第一镀制抗蚀剂被选择性地定位在所述第一介电层中并邻近所述第一子复合结构;

第二镀制抗蚀剂,所述第二镀制抗蚀剂被选择性地定位在所述第一介电层或者第二介电层中并邻近所述第二子复合结构,所述第二镀制抗蚀剂与所述第一镀制抗蚀剂分离;以及

贯通孔,所述贯通孔穿过所述第一子复合结构、所述第二子复合结构、所述第一介电层、所述第二介电层、所述第一镀制抗蚀剂、所述第三子复合结构和所述第二镀制抗蚀剂,其中,除了沿着所述第一镀制抗蚀剂与所述第二镀制抗蚀剂之间的第一长度之外,所述贯通孔的内表面被镀制有导电材料,以形成分割的镀制贯通孔,该分割的镀制贯通孔具有与第二通孔段电隔离的第一通孔段,所述第一通孔段穿过所述第一子复合结构延伸到所述第一镀制抗蚀剂,而所述第二通孔段从所述第二镀制抗蚀剂延伸穿过所述第二子复合结构。

2.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,其中,所述第一镀制抗蚀剂和所述第二镀制抗蚀剂位于所述第一介电层内,并且所述多层印刷电路板还包括:

第三镀制抗蚀剂,所述第三镀制抗蚀剂被选择性地定位在所述第二介电层中;以及

第四镀制抗蚀剂,所述第四镀制抗蚀剂被选择性地定位在所述第二介电层中,所述第三镀制抗蚀剂与所述第四镀制抗蚀剂分离,其中,所述贯通孔穿过所述第二介电层、所述第三镀制抗蚀剂和所述第四镀制抗蚀剂,其中,除了沿着所述第三镀制抗蚀剂与所述第四镀制抗蚀剂之间的第二长度之外,所述贯通孔的内表面被镀制有所述导电材料,以形成与所述第一通孔段和所述第二通孔段电隔离的第三通孔段,所述第三通孔段从所述第四镀制抗蚀剂延伸并穿过所述第三子复合结构。

3.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,所述多层印刷电路板还包括:

一个或更多个子复合结构;以及

一个或更多个附加的介电层,所述一个或更多个附加的介电层在所述一个或更多个子复合结构之间。

4.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,其中,所述第一镀制抗蚀剂的第一厚度小于所述第一介电层的第二厚度。

5.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,其中,所述第一镀制抗蚀剂的第一厚度与所述第一介电层的第二厚度相同。

6.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,其中,所述第一镀制抗蚀剂包括绝缘疏水树脂材料,所述绝缘疏水树脂材料抵抗能够催化无电金属沉积的催化物种的沉积。

7.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,其中,所述第一镀制抗蚀剂和所述第二镀制抗蚀剂中的至少一个具有比所述贯通孔的半径大的半径。

8.根据权利要求1所述的多层印刷电路板,其中,所述第一通孔段和所述第二通孔段沿着所述分割的镀制贯通孔的圆周分离。

9.根据权利要求2所述的多层印刷电路板,其中,所述第一通孔段和所述第三通孔段彼此电隔离。

10.根据权利要求2所述的多层印刷电路板,其中,所述第一通孔段、所述第二通孔段和所述第三通孔段彼此电隔离。

11.根据权利要求2所述的多层印刷电路板,其中,所述第一镀制抗蚀剂、所述第二镀制抗蚀剂、所述第三镀制抗蚀剂和所述第四镀制抗蚀剂仅沉积在所述贯通孔周围的区域中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于桑米纳公司,未经桑米纳公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910119235.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top