[发明专利]一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法及装置

权利要求书

1.一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法，其特征在于，所述方法包括：

获取初始掩模图形；

根据所述初始掩模图形的几何特征，得到与所述初始掩模图形相关的至少一个测试图形；

在目标光源库中查找与所述测试图形对应的测试光源，所述测试光源为与所述测试图形对应的经过优化的光源；

根据所述测试光源的光源参数，确定初始光源的光源参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，若所述测试图形为多个，则所述根据所述测试光源的光源参数，确定初始光源的光源参数，包括：

根据所述测试图形的重要程度，确定与所述测试图形匹配的测试光源的权重；

根据所述测试光源的权重，对所述测试光源的光源参数进行加权平均，得到所述初始光源的光源参数。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标光源库中的测试光源可以通过以下方式获取：利用光源掩模协同优化方法，对所述测试图形和环形光源进行协同优化，得到所述测试图形对应的测试光源。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述初始掩模图形的集合特征，得到与所述初始掩模图形相关的至少一个测试图形，包括：

对所述初始掩模图形进行拆分，得到至少一个所述测试图形；和/或，

根据所述初始掩模图形的几何特征，提取所述初始掩模图形中的关键图形，根据所述关键图形设计至少一个所述测试图形。

5.根据权利要求1-3任意一项所述的方法，其特征在于，所述初始掩模图形的几何特征包括：构成初始掩模图形的各个单元图形的线宽、周期、方向、数量以及排布。

6.根据权利要求1-3任意一项所述的方法，其特征在于，所述测试图形包括以下图形的至少一种：独立线条图形、线条周期图形、独立方块图形、方块周期阵列图形、方块交错排列图形、独立矩形图形、矩形周期阵列图形、矩形交错排列图形、端对端周期图形、端对线周期图形、L型图形、U型图形、T型图形、H型图形。

7.根据权利要求1-3任意一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

利用光源掩模协同优化方法，对所述初始掩模图形的图形参数和所述初始光源的光源参数进行优化。

8.一种光源掩膜协同优化初始光源的确定装置，其特征在于，所述装置包括：

图形获取单元，用于获取初始掩模图形；

测试图形生成单元，用于根据所述初始掩模图形的几何特征，得到与所述初始掩模图形相关的至少一个测试图形；

测试光源查找单元，用于在目标光源库中查找与所述测试图形对应的测试光源，所述测试光源为与所述测试图形对应的经过优化的光源；

初始光源确定单元，用于根据所述测试光源的光源参数，确定初始光源的光源参数。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，若所述测试图形为多个，则所述初始光源确定单元，包括：

权重确定单元，用于根据所述测试图形的重要程度，确定与所述测试图形匹配的测试光源的权重；

初始光源确定子单元，用于根据所述测试光源的权重，对所述测试光源的光源参数进行加权平均，得到所述初始光源的光源参数。

10.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

测试光源获取单元，用于利用光源掩模协同优化方法，对所述测试图形和环形光源进行协同优化，得到所述目标光源库中与所述测试图形对应的测试光源。

11.根据权利要求8-10任意一项所述的装置，其特征在于，所述测试图形生成单元具体用于：

对所述初始掩模图形进行拆分，得到至少一个所述测试图形；和/或，

根据所述初始掩模图形的几何特征，提取所述初始掩模图形中的关键图形，根据所述关键图形设计至少一个所述测试图形。

12.根据权利要求8-10任意一项所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：

优化单元，用于利用光源掩模协同优化方法，对所述初始掩模图形的图形参数和所述初始光源的光源参数进行优化。