[发明专利]光阻化合物在审
| 申请号： | 201910120215.X | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN110609443A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;林进祥;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光阻材料 金属氧化 纳米颗粒 酸度系数 配位基 光阻 | ||
【权利要求书】：
1.一种光阻化合物，其特征在于，包含：
一光阻材料，包含多个金属氧化纳米颗粒与一配位基；以及
一种酸，该种酸的酸度系数pKa介于-15到4之间，或是一种碱，该种碱的酸度系数pKa介于9到40之间。
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