[发明专利]一种阵列基板、其制备方法及显示装置

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括显示区域，所述显示区域具有图像获取区域，所述图像获取区域包括透光区域和包围所述透光区域的周边区域；其中，

所述周边区域包括位于衬底基板上的多条金属走线，以及位于所述金属走线与所述衬底基板之间的第一遮光部；所述金属走线在所述衬底基板上的正投影被所述第一遮光部在所述衬底基板上的正投影覆盖。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括位于所述衬底基板与所述金属走线之间的缓冲层，所述第一遮光部位于所述衬底基板与所述缓冲层之间。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，在所述显示区域中，除所述图像获取区域的其它区域包括薄膜晶体管，以及用于遮挡所述薄膜晶体管的第二遮光部；所述第一遮光部与所述第二遮光部同层设置。

4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，在所述显示区域中，除所述图像获取区域的其它区域包括薄膜晶体管，所述第一遮光部与所述薄膜晶体管的有源层同层设置。

5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，还包括位于所述衬底基板与所述金属走线之间的缓冲层，所述第一遮光部包括叠层设置的第一子遮光部和第二子遮光部，所述第一子遮光部位于所述衬底基板与所述缓冲层之间，所述第二子遮光部位于所述缓冲层与所述金属走线之间。

6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，在所述显示区域中，除所述图像获取区域的其它区域包括薄膜晶体管，以及用于遮挡所述薄膜晶体管的第二遮光部；所述第一子遮光部与所述第二遮光部同层设置，所述第二子遮光部与所述薄膜晶体管的有源层同层设置。

7.如权利要求1-6任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述透光区域仅包括位于所述衬底基板上的缓冲层。

8.一种液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的阵列基板。

9.一种如权利要求1-7任一项所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，包括：

在周边区域的衬底基板上形成第一遮光部；

在形成有所述第一遮光部的衬底基板上形成多条金属走线；其中，所述金属走线在所述衬底基板上的正投影被所述第一遮光部在所述衬底基板上的正投影覆盖。

10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，在形成所述多条金属走线之前，还包括：

在图像获取区域形成缓冲层、薄膜晶体管的有源层和绝缘层；

通过一次构图工艺去除位于所述透光区域的所述薄膜晶体管的有源层和所述绝缘层，以在所述透光区域仅保留所述缓冲层。