[发明专利]阵列基板、显示面板和显示装置有效
申请号: | 201910122021.3 | 申请日: | 2019-02-19 |
公开(公告)号: | CN109817689B | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 周桢力;蒋志亮;刘伟 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 袁礼君;阚梓瑄 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示 面板 显示装置 | ||
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:
衬底基板;
静电消减层,设于所述衬底基板之上;
有机材料层组,设于所述静电消减层的背离所述衬底基板的一面;
阻水层,设于所述有机材料层组的背离所述衬底基板的一面,所述阻水层将所述有机材料层组包覆,且所述阻水层上设置有凹槽,所述凹槽的延伸方向与外围区域和显示区域的分隔线的延伸方向一致;
第一阻挡墙,设于所述衬底基板之上并位于所述有机材料层组的靠近所述显示区域的一侧,所述第一阻挡墙上覆盖所述阻水层,且所述有机材料层组与所述第一阻挡墙之间设有所述凹槽。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凹槽贯穿所述阻水层以将所述阻水层分成相互间隔的两部分。
3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一阻挡墙包括:
平坦化层,设于所述衬底基板之上;
第一阻挡材料层,设于所述平坦化层的背离所述衬底基板的一面;
第二阻挡材料层,设于所述第一阻挡材料层的背离所述衬底基板的一面。
4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:
第二阻挡墙,设于所述衬底基板之上并位于所述第一阻挡墙的靠近所述显示区域的一侧,所述第二阻挡墙上覆盖所述阻水层。
5.根据权利要求1~4任意一项所述的阵列基板,其特征在于,所述凹槽的个数为多个,多个所述凹槽互相平行设置。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,有机材料层组包括:
第一有机材料层,设于所述静电消减层的背离所述衬底基板的一面;
第二有机材料层,设于所述第一有机材料层的背离所述衬底基板的一面。
7.一种显示面板,其特征在于,包括:
权利要求1~6任意一项所述的阵列基板。
8.一种显示装置,其特征在于,包括:
权利要求7所述的显示面板。
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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