[发明专利]导电层的制作方法和显示面板

权利要求书

1.一种导电层的制作方法，其特征在于，包括步骤：

在待涂布导电层的待涂布对象上涂布光阻；

通过掩膜版曝光涂布光阻后的待涂布对象并显影处理，定义出无需涂布导电层的部分；

在显影处理后的待涂布对象上涂布导电层；

在涂布导电层后通过预设方式对涂布导电层后的待涂布对象清洗将无需涂布导电层的部分从待涂布对象上剥离，得到保留了需要涂布部分的导电层的待涂布对象。

2.如权利要求1所述的导电层的制作方法，其特征在于，所述的预设方式为通过丙酮溶液清洗涂布了导电层的待涂布对象表面，将不需要涂布导电层的部分的光阻和导电层清洗掉。

3.如权利要求1所述的导电层的制作方法，其特征在于，所述的预设方式为通过超声波激活不需要涂布导电层处涂布的部分；将该部分的光阻暴露出来，通过丙酮溶液清洗涂布了导电层的待涂布对象表面，将不需要涂布导电层的部分的光阻和导电层清洗掉。

4.如权利要求3所述的导电层的制作方法，其特征在于，所述超声波的功率大于预设功率阈值。

5.如权利要求1至4任一项所述的导电层的制作方法，其特征在于，所述光阻的厚度为A，所述导电层的厚度为B，所述a*A≤B≤b*A，其中所述a和b为大于1的自然数，且所述a<b。

6.如权利要求1至4任一项所述的导电层的制作方法，其特征在于，在保留了需要涂布部分的导电层的涂布对象之后，还包括：

在待涂布对象涂布了导电层侧的表面涂布取向材料；

固化涂布的取向材料并进行取向摩擦处理，以使液晶分子按照取向摩擦处理后的方向排布。

7.如权利要求1至4任一项所述的导电层的制作方法，其特征在于，所述得到保留了需要涂布部分的导电层的待涂布对象之后，还包括：

在所述导电层上依次设置保护层和金属层，其中，采用与所述保护层相同的掩膜版在所述保护层上设置所述金属层，所述金属层通过一接触孔将所述金属层与所述导电层连接。

8.如权利要求7所述的导电层的制作方法，其特征在于，所述在所述导电层上依次设置保护层和金属层的步骤包括：

在所述导电层上沉积所述保护层，其中采用第一光阻对所述保护层进行光刻形成所述接触孔，并在光刻后保留所述第一光阻；

在所述第一光阻上设置所述金属层，采用第二光阻对所述金属层进行光刻，其中所述第二光阻与所述第一光阻特性相同。

9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：

阵列基板，所述阵列基板包括导电层，所述导电层由权利要求1至8任一项所述方法制作；

对向基板，与所述阵列基板对向设置；

液晶层，填充于所述阵列基板与所述对向基板之间。