[发明专利]利用RF等离子场对EUV光学器件的主动净化的装置和方法

权利要求书

1.一种用于极紫外光学器件的装置，包括：

具有导电表面的极紫外光光学元件，所述导电表面为圆形并且具有中心孔隙；以及

邻近于所述导电表面布置并且电耦合到所述导电表面的导电构件，所述导电构件跨越除了所述中心孔隙之外的所述导电表面的直径，

所述导电表面和所述导电构件关于彼此被布置，以使得等离子体在RF功率被供应至所述导电构件时被产生，所述等离子体能够从所述导电表面的至少一部分去除污染物。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述导电构件充分接近于所述导电表面从而能够将RF能量耦合至所述导电表面。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述导电构件与所述导电表面物理接触。

4.根据权利要求1所述的装置，进一步包括电连接至所述导电构件的电源，所述电源包括射频驱动器电路。

5.根据权利要求1所述的装置，其中所述导电构件为板形状。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述导电构件符合于所述导电表面的形状。

7.根据权利要求1所述的装置，其中所述导电表面具有遮蔽，并且所述导电构件位于所述遮蔽之内。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述极紫外光光学元件包括电绝缘衬底和导电表面。

9.根据权利要求1所述的装置，进一步包括屏蔽，所述屏蔽被定位以使得所述导电表面介于所述屏蔽与所述导电构件之间。

10.根据权利要求9所述的装置，其中所述屏蔽电连接至接地。

11.一种用于产生极紫外辐射的模块，所述模块包括：

RF驱动器电路；

RF电极，包括收集器镜的反射性导电表面，所述导电表面被布置为对来自产生极紫外光的等离子体的辐射进行聚焦，所述导电表面为圆形并且具有中心孔隙；以及

接近于所述导电表面的部分被布置的导电构件，所述导电构件电连接至所述RF驱动器电路并且被布置为将RF能量耦合至所述导电表面中，所述导电构件跨越除了所述中心孔隙之外的所述导电表面的直径。

12.一种净化极紫外光源中的导电镜面的方法，所述导电镜面为圆形并且具有中心孔隙，所述导电镜面是收集器镜的导电表面，并且被布置为对来自产生极紫外光的等离子体的辐射进行聚焦，所述方法包括步骤：

提供导电构件，所述导电构件邻近于所述导电镜面布置并且电耦合到所述导电镜面，并且跨越除了所述中心孔隙之外的所述导电镜面的直径；

向所述导电构件提供RF功率；以及

将所述RF功率从所述导电构件耦合至所述导电镜面，以在所述导电镜面处产生电容性耦合的RF等离子体来净化所述导电镜面。

13.一种光刻装置，包括：

用于产生辐射束的照射系统；

用于支撑处于所述辐射束的路径中的图案形成设备的支撑结构，所述图案形成设备将图案赋予所述辐射束；

用于支撑衬底的衬底台；以及

被适配为将所述图案投影到所述衬底上的投影系统，

所述照射系统包括极紫外光光学元件，所述极紫外光光学元件具有圆形的导电表面和导电构件，所述导电表面具有中心孔隙，所述导电表面是收集器镜的导电表面，并且被布置为对来自产生极紫外光的等离子体的辐射进行聚焦，所述导电构件邻近于所述导电表面布置、并且跨越除了所述中心孔隙之外的所述导电表面的直径、并且电耦合到所述导电表面，所述导电表面和所述导电构件关于彼此被布置以使得等离子体在RF功率被供应至所述导电构件时被产生，所述等离子体能够从所述导电表面的至少一部分去除污染物。