[发明专利]一种均匀出光扩散板结构及其制造方法

权利要求书

1.一种均匀出光扩散板结构，其特征在于：包括

光源点阵，具有至少一个主出光面；

均匀化层，用于对从主出光面射出的光线进行光学扩散，所述均匀化层设置在所述主出光面出光方向的延伸方向上；

调节载体，所述调节载体在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面与均匀化层；

亮度调节图形，所述亮度调节图形以非全覆盖的形式设置在调节载体表面，该亮度调节图形为：以光源出光面上的由光强分布不同而形成的二维亮暗图形为投影物，投影到调节载体表面所形成的图形或反像图形；

亮度调节图形在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面表面与均匀化层的下表面。

2.根据权利要求1所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述亮度调节图形为由光学扩散粉构成的疏密分布的图形。

3.根据权利要求2所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述光学扩散粉为透明且折射率与调节载体材料的折射率相差大于20％的透明颗粒。

4.根据权利要求3所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述光学扩散粉为钛白粉、二氧化硅颗粒、氮化硅、酰胺、聚合物树脂、导热塑料颗粒中的任意一种或两种及两种以上的混合物。

5.根据权利要求1所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述亮度调节图形为在调节载体上形成的光学增亮微结构，所述光学增亮微结构设置在调节载体中由折射率高的介质中出射到折射率低的介质中的一个表面。

6.根据权利要求5所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述光学增亮微结构为透明且折射率与调节载体材料的折射率相差小于10％的透明微纳米尺度的凸起颗粒，且微纳米尺度的凸起颗粒与调节载体基材之间无空隙。

7.根据权利要求5所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述光学增亮微结构为微纳米尺度的凹坑。

8.根据权利要求1所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述调节载体为均匀化层，所述亮度调节图形设置在均匀化层上面向主出光面的一侧表面。

9.根据权利要求1所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述调节载体为光源点阵，所述亮度调节图形设置在光源点阵的主出光面上。

10.根据权利要求1所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述调节载体为设置在光源点阵主出光面与均匀化层之间的调节板或调节膜。

11.根据权利要求10所述的均匀出光扩散板结构，其特征在于：所述调节载体的材质为PMMA、PC、PS、PI、透明塑料、玻璃、蓝宝石或硅胶中的任意一种。

12.一种实现权利要求1所述均匀出光扩散板结构的制造方法，其特征在于：所述制造方法主要为制作具有亮度调节图形的调节载体，首先在光源点阵主出光面的出光方向上设置感光面，该感光面至光源点阵主出光面的距离记作H1，调节载体上待制作的亮度调节图形距光源点阵主出光面的距离记作H2，使得H1＝H2；

其次，以感光面为基准，使用感光设备对点亮后的光源点阵进行光学曝光或扫描，得到光源点阵主出光面的光强分布信息；

然后，图形制作设备通过光强分布信息对调节载体的表面制作亮度调节图形。

13.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于：所述图形制作设备为调暗图形制作设备。

14.根据权利要求13所述的制造方法，其特征在于：所述调暗图形制作设备为打印设备、复印设备、喷涂设备、点墨设备、点胶设备。

15.根据权利要求12所述的制造方法，其特征在于：所述图形制作设备为调亮图形制作设备。