[发明专利]一种均匀出光扩散板结构及其制造方法在审
申请号: | 201910132065.4 | 申请日: | 2019-02-22 |
公开(公告)号: | CN109655949A | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 王书昶;孙智江;吉爱华 | 申请(专利权)人: | 海迪科(南通)光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;F21V5/08 |
代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
地址: | 226500 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 主出光面 均匀化层 亮度调节 光源 扩散板结构 点阵 均匀出光 载体表面 出光均匀 光强分布 光学扩散 全覆盖 投影物 下表面 二维 反像 射出 投影 制造 延伸 保证 | ||
本发明涉及一种均匀出光扩散板结构及其制造方法,包括光源点阵,具有至少一个主出光面;均匀化层,用于对从主出光面射出的光线进行光学扩散,所述均匀化层设置在所述主出光面出光方向的延伸方向上;调节载体,所述调节载体在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面与均匀化层;亮度调节图形,所述亮度调节图形以非全覆盖的形式设置在调节载体表面,该亮度调节图形为:以光源出光面上的由光强分布不同而形成的二维亮暗图形为投影物,投影到调节载体表面所形成的图形或反像图形;亮度调节图形在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面表面与均匀化层的下表面。本发明的优点在于:本发明能够保证扩散板结构出光均匀一致。
技术领域
本发明涉及一种半导体光电子及光学领域,特别涉及一种均匀出光扩散板结构及其制造方法。
背景技术
众所周知,现有的光源,大部分是点光源,从点光源到面光源,就出现了不均匀的发光源,有的已经雾化,牺牲了亮度,出光率降低,对均匀性有改观,虽然现有的扩散板种类繁多,但没有彻底解决光的均匀一致性问题。随着生活水平提高,人们对光文化的需求也越来越高,人们要求出射的光均匀一致,出光效率要高,且越薄越好,这成为LED业界关注的焦点。
现有的扩散板的出光结构在使用时存在一定的弊端,当点光源点亮后,扩散板经过扩散后得到的光不能达到均匀出光,出现混光不一致,有亮区和暗区存在,在使用时带来了一定的影响;为此,本发明提出一种创新的扩散板结构实现均匀出光。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种均匀出光扩散板结构,目的是解决出光均匀一致性的问题,还提供该均匀出光扩散板结构的制造方法。
为解决上述技术问题,本发明的技术方案为:一种均匀出光扩散板结构,其创新点在于:包括
光源点阵,具有至少一个主出光面;
均匀化层,用于对从主出光面射出的光线进行光学扩散,所述均匀化层设置在所述主出光面出光方向的延伸方向上;
调节载体,所述调节载体在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面与均匀化层;
亮度调节图形,所述亮度调节图形以非全覆盖的形式设置在调节载体表面,该亮度调节图形为:以光源出光面上的由光强分布不同而形成的二维亮暗图形为投影物,投影到调节载体表面所形成的图形或反像图形;
亮度调节图形在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面表面与均匀化层的下表面。
进一步的,所述亮度调节图形为由光学扩散粉构成的疏密分布的图形。
进一步的,所述光学扩散粉为透明且折射率与调节载体材料的折射率相差大于20%的透明颗粒。
进一步的,所述光学扩散粉为钛白粉、二氧化硅颗粒、氮化硅、酰胺、聚合物树脂、导热塑料颗粒中的任意一种或两种及两种以上的混合物。
进一步的,所述亮度调节图形为在调节载体上形成的光学增亮微结构,所述光学增亮微结构设置在调节载体中由折射率高的介质中出射到折射率低的介质中的一个表面。
进一步的,所述光学增亮微结构为透明且折射率与调节载体材料的折射率相差小于10%的透明微纳米尺度的凸起颗粒,且微纳米尺度的凸起颗粒与调节载体基材之间无空隙。
进一步的,所述光学增亮微结构为微纳米尺度的凹坑。
进一步的,所述调节载体为均匀化层,所述亮度调节图形设置在均匀化层上面向主出光面的一侧表面。
进一步的,所述调节载体为光源点阵,所述亮度调节图形设置在光源点阵的主出光面上。
进一步的,所述调节载体为设置在光源点阵主出光面与均匀化层之间的调节板或调节膜。
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