[发明专利]气体溶解液制造装置有效
申请号: | 201910133203.0 | 申请日: | 2019-02-22 |
公开(公告)号: | CN110180416B | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 中川洋一 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B01F23/23 | 分类号: | B01F23/23;B01F35/21 |
代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖华 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 气体 溶解 制造 装置 | ||
本发明提供一种气体溶解液制造装置,能够提高气体溶解效率,并且能够提高气体溶解液的浓度的稳定性。气体溶解液制造装置(臭氧水制造装置(1))具备:供给臭氧气体的臭氧气体供给部(2);供给纯水的纯水供给部(3);以及臭氧水生成部(4),该臭氧水生成部使臭氧气体溶解于供给的纯水并生成臭氧水。臭氧水生成部(4)具备:第一喷嘴(10),该第一喷嘴具有第一最佳流量;第二喷嘴(11),该第二喷嘴具有与第一最佳流量不同的第二最佳流量;流量检测部(15),该流量检测部对供给的纯水的流量进行检测;以及控制部(16),该控制部基于在流量检测部检测的纯水的流量,对将供给的气体向第一喷嘴和第二喷嘴的哪一个供给进行控制。
技术领域
本发明涉及使气体溶解于液体来制造气体溶解液的气体溶解液制造装置。
背景技术
近年,伴随制造过程的复杂化、电路图案的微细化,半导体器件工厂、液晶等电子部件制造工厂中的产品的清洗越来越高度集成化。例如,使用特殊的液体(称为清洗液)除去附着于硅晶片的微粒、金属、有机物等,其中,将高纯度的气体或者高纯度气体和药品溶解于功能水(超纯水等)而形成该液体。
作为功能水,使用将臭氧气体溶解于纯水的臭氧水。一般地在臭氧水制造装置制造臭氧水,但是制造的臭氧水的流量(所需的臭氧水的流量)根据在使用点的使用状况而变动。
在以往的臭氧水制造装置中,使用将臭氧气体溶解于纯水用的喷嘴(例如参照专利文献1)。喷嘴通过在喷嘴流通的纯水的流量而使臭氧气体的溶解效率产生变化。并且,在喷嘴中存在因臭氧水浓度(溶解于臭氧水的臭氧的浓度)和流量而导致臭氧水浓度的稳定性变差的区域(参照图6)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-75838号公报
发明要解决的问题
然而,在以往的臭氧水制造装置中,存在以下那样的问题。首先,在喷嘴中存在使臭氧溶解效率(使臭氧溶解于水的效率)最佳的流量(最佳流量),当供给到喷嘴的纯水的流量偏离最佳流量时,臭氧溶解效率变低,为了生成期望的浓度的臭氧水需要更多的臭氧气体,即,存在臭氧气体的使用量增加的问题。并且,存在如下问题:当供给到喷嘴的纯水的流量与最佳流量相比过低时,在喷嘴生成的臭氧水的浓度的稳定性变低。
发明内容
本发明鉴于上述的问题而作出,目的在于提供一种气体溶解液制造装置,能够提高气体溶解效率,并且提高气体溶解液的浓度的稳定性。
用于解决问题的手段
本发明的气体溶解液制造装置具备:气体供给部,该气体供给部供给作为气体溶解液的原料的气体;液体供给部,该液体供给部供给作为所述气体溶解液的原料的液体;以及气体溶解液生成部,该气体溶解液生成部使从所述气体供给部供给的气体溶解于从所述液体供给部供给的液体,从而生成气体溶解液,所述气体溶解液生成部具备:第一气体溶解部,该第一气体溶解部具有第一最佳流量;第二气体溶解部,该第二气体溶解部具有与所述第一最佳流量不同的第二最佳流量;流量检测部,该流量检测部对从所述液体供给部供给的液体的流量进行检测;以及控制部,该控制部基于由所述流量检测部检测出的所述液体的流量,对将从所述气体供给部供给的气体向所述第一气体溶解部和所述第二气体溶解部的哪一个供给进行控制。
根据该结构,在气体溶解液生成部,使从气体供给部供给的气体溶解于从液体供给部供给的液体,从而生成气体溶解液。气体溶解液生成部具备最佳流量不同的两个气体溶解部(第一气体溶解部和第二气体溶解部),并基于从液体供给部供给的液体的流量,对将从气体供给部供给的气体向两个气体溶解部(第一气体溶解部和第二气体溶解部)的哪一个供给进行控制。由此,能够在与液体的流量相应的适当的气体溶解部进行气体的溶解,因此能够提高气体溶解效率,并减少气体的使用量。并且,能够在与液体的流量相应的适当的气体溶解部进行气体的溶解,因此提高在气体溶解液生成部生成的气体溶解液的浓度的稳定性。
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