[发明专利]一种光瞳评价方法及其系统、电子装置

权利要求书

1.一种光瞳评价方法，其特征在于：所述光瞳评价方法包括以下步骤：

步骤S1，获取测试图形集合；

步骤S2，提供待评价的光瞳，获取与所述光瞳匹配的光学模型；

步骤S3，利用步骤S2中的光学模型对步骤S1中的所有测试图形进行仿真处理，以选取预设数量符合光刻性能要求的关键图形；及

步骤S4，对步骤S3中获得的关键图形进行分析处理以获得关键图形的仿真结果，其中，仿真结果对应于所述待评价的光瞳的X方向非均衡度、Y方向非均衡度及椭圆度；

上述步骤S1与步骤S2的顺序可互换或可同时进行。

2.如权利要求1中所述光瞳评价方法，其特征在于：在上述步骤S3中，选取预设数量符合光刻性能要求及预设需求的关键图形的步骤包括：

基于所述测试图形的图像对数斜率和工艺窗口的大小在所有测试图形中选取部分符合光刻性能要求的测试图形；及

在符合光刻性能要求的测试图形中，选取满足预设需求的关键图形。

3.如权利要求1中所述光瞳评价方法，其特征在于：上述步骤S4中具体包括以下步骤：

步骤S41，获得步骤S3中选取的每一关键图形对应X正方向的边缘位置误差EPE(X⁺)与X负方向的边缘位置误差EPE(X^-)之差diff(X)，基于所有选取的关键图形的差值diff(X)运算获得其对应的方均根X_RMS；

步骤S42，获得步骤S3中选取的每一关键图形对应Y正方向的边缘位置误差EPE(Y⁺)与Y负方向的边缘位置误差EPE(Y^-)之差diff(Y)，基于所有选取的关键图形的差值diff(Y)运算获得其对应的方均根Y_RMS；及

步骤S43，获得步骤S3中选取的每一关键图形对应在X方向上对称线条的关键尺寸CD_X与在Y方向上对称线条的关键尺寸CD_Y之差diff(E)，计算出所有选取的关键图形的差值diff(E)的方均根，以获得选取的所有关键图形对应的方均根E_RMS；

其中，步骤S41、步骤S42及步骤S43可为任意顺序或可同时进行。

4.如权利要求3中所述光瞳评价方法，其特征在于：所述光瞳评价方法还包括以下步骤：

步骤S44，基于获得的方均根X_RMS、方均根Y_RMS及方均根E_RMS，对应输出所述光瞳的X方向非均衡度、Y方向非均衡度及椭圆度。

5.如权利要求3中所述光瞳评价方法，其特征在于：在上述步骤S4中，方均根X_RMS与X方向非均衡度、方均根Y_RMS与Y方向非均衡度、方均根E_RMS与椭圆度的大小均成正向关系。

6.如权利要求1中所述光瞳评价方法，其特征在于：在步骤S4之后，还包括：

步骤S5，将步骤S4获得的与X方向非均衡度、Y方向非均衡度及椭圆度匹配的仿真结果进行存储。

7.一种光瞳评价系统，其特征在于：所述光瞳评价系统包括：

图形提供模块，用于获取测试图形集合；

光学模型匹配模块，用于提供待评价的光瞳，获取与所述光瞳匹配的光学模型；

图形筛选模块，用于利用光学模型对所有测试图形进行仿真处理，以选取预设数量符合光刻性能要求及预设需求的关键图形；及

分析处理模块，用于对获得的关键图形进行分析处理以获得关键图形仿真结果，其中，仿真结果对应于评价光瞳的X方向非均衡度、Y方向非均衡度及椭圆度。

8.如权利要求7中所述光瞳评价系统，其特征在于：所述图形筛选模块进一步包括：

比较单元，用于基于所述测试图形的图像对数斜率和工艺窗口的大小在所有测试图形中选取部分符合光刻性能要求的测试图形；及在符合光刻性能要求的测试图形中，选取满足客户需求的关键图形。