[发明专利]一种可阻止孔圈发白的微蚀液有效

专利信息
申请号: 201910134522.3 申请日: 2019-02-23
公开(公告)号: CN109735845B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 饶猛;夏金良;莫庆生 申请(专利权)人: 上海富柏化工有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201500 上海市金*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 阻止 发白 微蚀液
【说明书】:

本发明公开了一种可阻止孔圈发白的微蚀液,其涉及电路板生产领域,旨在解决现有技术中孔环电镀后在进行前处理微蚀时,铜晶格改变、孔圈发白的问题,其技术要点包括以下组分:双氧水10‑20g/L;硫酸90‑110g/L;咬铜抑制剂5‑15g/L;咬铜促进剂0.5‑2g/L;双氧水稳定剂1.5‑3g/L、低泡表面活性剂0.2‑0.3g/L,去离子水1L,本发明通过加入相关功能性添加剂,具有稳定的微蚀速率,微蚀过程温和可控,同时抑制双氧水分解,可以均匀有效地粗化铜面,而且不易造成铜面氧化,有效抑制铜晶格改变、孔圈发白,同时板面残留清洗简易,污染小。

技术领域

本发明涉及印刷线路板生产领域,更具体地说,它涉及一种可阻止孔圈发白的微蚀液。

背景技术

在PCB的生产中,需要利用微蚀液对电路板的铜层进行咬蚀,在微蚀过程中,通常采用微蚀液对线路板进行加工,现有的微蚀液有复合钾盐体系和过硫酸钠加硫酸体系等,但是普通的微蚀液在咬蚀过程中,常常出现孔圈粗糙发白、色差等问题。

现有申请公布号为CN105734571A的中国专利,明公开了一种金属表面微蚀液,由以下质量百分比的原料组成:质量分数为50%的稀硫酸15-25%、双氧水10-15%、稳定剂2-5%、表面活性剂0.5-1%、防菌剂0.2%,水余量。

但是,双氧水对线路板进行咬蚀的过程中,铜原子结构偏离了理想晶体结构的区域,造成铜晶格改变,进而引起孔圈发白的问题。

发明内容

针对现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种可阻止孔圈发白的微蚀液,通过添加功能性添加剂来平衡咬铜和抑铜的过程,从而孔圈粗糙发白。

为实现上述目的,本发明提供了如下技术方案:

一种可阻止孔圈发白的微蚀液,包括以下组分:

通过采取上述技术方案,双氧水作为咬蚀主剂可以对铜层进行咬蚀,双氧水稳定剂长期维持双氧水稳定不裂解,进而保证咬蚀过程的稳定进行,硫酸维持微蚀液的酸环境,同时咬铜抑制剂和咬铜促进剂共同作用,平衡咬铜和抑铜的过程,使双氧水对铜层的咬蚀速率达到一个平衡点,使咬蚀过程温和、可控地进行,从而达到平滑蚀铜的效果。

本发明的进一步设置为,所述咬铜抑制剂为有机酸。

通过采取上述技术方案,因为在双氧水与铜的反应过程中,生成的铜离子会进一步催化双氧水的分解,加入有机酸可以与反应生成的铜离子通过共用电子对形成配位键,进而使有机酸与铜离子形成络合物,进而降低铜离子对微蚀过程的干扰,同时,由于铜离子与有机酸形成络合物,可以增加槽液的溶铜能力。

本发明的进一步设置为,所述咬铜抑制剂为柠檬酸、甲基磺酸和酒石酸中的一种或多种。

通过采取上述技术方案,柠檬酸中的三个羧基可以与一个铜离子形成配位键,进而形成三配位的柠檬酸铜,甲基磺酸溶于水中后可以与铜离子、水分子共用电子对形成六配位的络合物-Cu(H2O)4(CH3SO3)2,酒石酸则与铜离子络合生成C4H4CuO6·3H2O,进而降低铜离子对微蚀过程的干扰。

本发明的进一步设置为,所述咬铜促进剂为环乙胺、正丁醇和正辛胺中的一种或多种。

通过采取上述技术方案,环乙胺、正丁醇和正辛胺为不对称有机化合物,其可以与过氧化氢之间形成非共价键而产生非共价催化作用,进而提高双氧水的活性,在双氧水与铜的反应过程中,降低此反应的活化能,进而可以加快此反应的反应速率,达到促进反应进行的目的。

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