[发明专利]真空处理装置、运入运出室

权利要求书

1.一种真空处理装置，具有：

运入运出室，在内部配置处理对象物，且内部被真空排气装置真空排气，所述处理对象物具有托盘和配置在前述托盘上的基板；以及

处理室，进行前述处理对象物具有的前述基板的真空处理；

前述处理对象物在前述运入运出室与前述处理室之间移动；

其特征在于，

在前述运入运出室中，设置有至少能够向相对于前述处理对象物接近的方向移动的推压部；

前述基板被前述推压部推压而固定于前述托盘。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，

在前述推压部的与前述基板接触的部分设置有接触部件，所述接触部件由具有柔性的弹性体形成；

前述接触部件向前述处理对象物接近而与前述处理对象物接触，如果前述接触部件变形，则由前述接触部件的复原力将前述基板向前述托盘推压。

3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述接触部件由氟树脂成形。

4.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，

前述接触部件由硅树脂成形。

5.如权利要求1～4中任一项所述的真空处理装置，其特征在于，

前述运入运出室具有：

台，配置前述处理对象物；

盖部件，在与前述台之间形成真空环境；以及

移动装置，使前述盖部件在相对于前述台接近的方向和离开的方向移动；

前述推压部设置于前述盖部件；

如果前述盖部件的盖开口的边缘与前述处理槽的表面接触，则前述运入运出室被封闭。

6.一种运入运出室，在内部配置处理对象物，且内部被真空排气装置真空排气，所述处理对象物具有托盘和配置在前述托盘上的基板，其特征在于，

在前述运入运出室中，设置有至少能够向相对于前述处理对象物接近的方向移动的推压部；

前述基板被前述推压部推压而固定于前述托盘。

7.如权利要求6所述的运入运出室，其特征在于，

在前述推压部的与前述基板接触的部分设置有接触部件，所述接触部件由具有柔性的弹性体形成；

前述接触部件向前述处理对象物接近而与前述处理对象物接触，如果前述接触部件变形，则由前述接触部件的复原力将前述基板向前述托盘推压。

8.如权利要求7所述的运入运出室，其特征在于，

前述接触部件由氟树脂成形。

9.如权利要求7所述的运入运出室，其特征在于，

前述接触部件由硅树脂成形。

10.如权利要求6～9中任一项所述的运入运出室，其特征在于，

具有：

台，配置前述处理对象物；

盖部件，在与前述台之间形成真空环境；以及

移动装置，使前述盖部件在相对于前述台接近的方向和离开的方向移动；

前述推压部设置于前述盖部件；

如果前述盖部件的盖开口的边缘与前述处理槽的表面接触，则前述运入运出室被封闭。