[发明专利]一种从电子化学品和电子化学品生产溶液中选择性去除或同时去除多种离子杂质的方法

权利要求书

1.一种从电子化学品和电子化学品生产溶液中选择性去除杂质离子的方法，其中所述化学品包含杂质离子以及有机物，其特征在于，所述方法使用的吸附材料是多孔基材表面通过化学键连接有机分子结构，且所述方法将所述吸附材料的至少两种进行混合；

其中，所述吸附材料的所述有机分子结构具有通式(I)，

其中，p为1-20，q为0-20，r为0-20；

A为C₃-C₂₀的烷基、C₃-C₂₀的烯基、芳基、醚基、胺基、磷基或硫基，或以上基团的两种及两种以上的组合；

B为(G_lF_mH_n)_o，l为1-20，m为0-20，n为0-20，o为1-20；

a)G和H是C₃-C₂₀的烷基、C₃-C₂₀的烯基、芳基、醚基、胺基、磷基或硫基，或以上基团的两种及两种以上的组合；

b)F是选自下列任意一种或多种基团：氰基、硝基、N，N-二甲基、酰胺基、亚胺、硫酰基、砜、亚砜、羰基、硫醚、硫醇、羧酸基、磺酸基、磷酸基、氟、氯、溴、碘；

E是选自下列任意一种或多种基团：氰基、硝基、N，N-二甲基、酰胺基、亚胺、硫酰基、砜、亚砜、羰基、硫醚、硫醇、羧酸基、磺酸基、磷酸基、氟、氯、溴、碘。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括将所述吸附材料的至少两种进行混合后，加入至所述化学品中，室温或加热情况下搅拌后将混合溶液过滤，得到滤液。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多孔基材是沸石、多孔硅胶、纳米二氧化硅以及聚甲基丙烯酸甲酯中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述有机分子结构选自4-((2-苄基-3-(丙硫基)丙基)硫基)-2-((2-苄基-3-巯基丙基)硫基)丁基-1-硫醇基、2-((2-(氨基甲基)己基)硫基)-4-((2-((丙基氨基)甲基)己基)硫基)丁基-1-硫醇基、2-((2-(氨基甲基)丁基)硫基)-4-((2-((丙基氨基)甲基)丁基)硫基)丁烷-1-硫醇基和2-((2-(丙基氨基)乙基)氨基)乙基-1-硫醇基、或3-((1-巯基-4-((2-巯基-3-(丙硫基)丙基)硫基)丁-2-基)硫基)丙基-1，2-二硫醇基。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述杂质离子选自Bi³⁺、Na⁺、Mg²⁺、Al³⁺、K⁺、Ca²⁺、Ti⁴⁺、Mn²⁺、F^-、Ni²⁺、Zn²⁺、Ag⁺、Ba²⁺、Pb²⁺、Li⁺、Cr²⁺、Fe²⁺、Co²⁺、Cu²⁺、Sn⁴⁺、Zn²⁺、V⁵⁺、As³⁺、Cd²⁺或W⁶⁺。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述有机物为溶液形式，且选自3-(8-羟基喹啉)铝(III)溶液、1-萘甲酸溶液、4,4-(双(9-乙基-3-咔唑亚乙基)-1,1-苯基溶液或4-(二氰基亚甲基)-2-甲基-6-(对二甲基氨基苯乙烯基)-4H-吡喃的二氯甲烷溶液。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，搅拌的温度为20-50摄氏度，搅拌时间为4-8小时。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，至少两种所述吸附材料的混合比例为1：1。