[发明专利]一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法

权利要求书

1.一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于包含以下步骤：

(1)制备合金镜面；

(2)将电解液倒入电解槽中，镍板或不锈钢板作为阴极，将需电解的试样与直流电源的阳极相连并放入电解液中，打开电源开关，电压控制在5～8V，保持2～10秒时间，取出，所述电解液的配方为：2～10毫升浓硝酸、10～20毫升醋酸和100～180毫升水；

(3)将电解后的试样立即放入装有0℃以下的纯酒精的烧杯中，清洗震荡3～10分钟后取出；

(4)在0℃以下的纯酒精中清洗6～13分钟后取出，吹干。

2.根据权利要求1所述的一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于：所述步骤(1)中，先将试样切割成至少有两个平行面的金属块，用砂轮机或粗砂纸去除表面的氧化皮，用砂纸抛光，再用研磨膏抛光至镜面，用水冲洗并用酒精清洗吹干后待用。

3.根据权利要求2所述的一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于：所述砂纸抛光从粗号到细号研磨至1000#砂纸。

4.根据权利要求2所述的一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于：所述研磨膏的粒度为W3.5以下。

5.根据权利要求1所述的一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于：所述步骤(2)中的电解槽为非导电的容器。

6.根据权利要求1所述的一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于：所述步骤(4)中的纯酒精的温度为-18～0℃。

7.根据权利要求1所述的一种钴基合金中沉淀强化相的电解蚀刻方法，其特征在于：所述步骤(4)中清洗分为两次，先清洗4～8分钟，取出倒掉纯酒精，再重新倒入纯酒精，清洗2～5分钟后取出。