[发明专利]埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201910146251.3 申请日: 2019-02-27
公开(公告)号: CN109733021A 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: 徐正保;徐佳佳;刘勇;夏杏军 申请(专利权)人: 浙江九通电子科技有限公司
主分类号: B32B17/02 分类号: B32B17/02;B32B7/12;B32B15/20;B32B17/06;B32B33/00;B32B37/02;B32B37/06;B32B38/00
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 燕宏伟
地址: 314107 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 玻璃布 改性聚苯醚 聚苯醚 电解铜箔层 多层背板 平面电阻 电阻箔 单面覆铜板 复合电极层 双面覆铜板 介质层 膜电阻 制作工艺 粘接层 重量轻 制作 覆盖
【权利要求书】:

1.一种埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:包括带电阻箔双面覆铜板(10)、聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)及连接于带电阻箔双面覆铜板(10)与聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)之间的聚苯醚玻璃布粘接层(30),带电阻箔双面覆铜板(10)包括改性聚苯醚玻璃布介质层(11)、设置于改性聚苯醚玻璃布介质层(11)朝向聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)一侧的带有电阻箔的复合电极层(13)及设置于改性聚苯醚玻璃布介质层(11)远离聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)一侧的第一电解铜箔层(12),聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)包括聚苯醚玻璃布介质层(21)及设置于聚苯醚玻璃布介质层(21)远离带电阻箔双面覆铜板(10)的一侧的第二电解铜箔层(22),复合电极层(13)包括覆盖于改性聚苯醚玻璃布介质层(11)远离第一电解铜箔层(12)的外侧的膜电阻层(131)及覆盖于膜电阻层(131)远离改性聚苯醚玻璃布介质层(11)的外侧的第三电解铜箔层(132)。

2.如权利要求1所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述膜电阻层(131)为镍磷合金膜。

3.如权利要求1所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述改性聚苯醚玻璃布介质层(11)的厚度为0.5~1毫米。

4.如权利要求1所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述聚苯醚玻璃布介质层(21)的厚度为0.3~0.5毫米。

5.如权利要求1所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述聚苯醚玻璃布粘接层(30)的厚度为0.05~0.1毫米。

6.如权利要求1所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述复合电极层(13)的厚度为300~500微米。

7.如权利要求6所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述第三电解铜箔层(132)的厚度为100~200微米。

8.如权利要求6所述的埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板,其特征在于:所述膜电阻层(131)的厚度为200~300微米。

9.一种埋平面电阻改性聚苯醚玻璃布高频多层背板的制作方法,包括以下步骤:

步骤S1:在聚苯醚玻璃布介质层(21)的一侧进行镀铜,形成第二电解铜箔层(22),完成聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)的制作;

步骤S2:将膜电阻层(131)与改性聚苯醚玻璃布介质层(11)通过高温压合;

步骤S3:在改性聚苯醚玻璃布介质层(11)远离膜电阻层(131)的一侧进行镀铜,形成第二电解铜箔层(22);

步骤S4:在膜电阻层(131)远离改性聚苯醚玻璃布介质层(11)的外侧进行镀铜,形成第三电解铜箔层(132),第三电解铜箔层(132)与膜电阻层(131)形成复合电极层(13),完成带电阻箔双面覆铜板(10)的初步制作;

步骤S5:在带电阻箔双面覆铜板(10)具有第三电解铜箔层(132)的一侧进行第一次蚀刻,蚀刻掉非线路区域(135)的第三电解铜箔层(132);

步骤S6:在已蚀刻掉第三电解铜箔层(132)的非线路区域(135)进行第二次蚀刻,蚀刻掉非线路区域(135)的膜电阻层(131),复合电极层(13)剩下的部分为线路区;

步骤S7:在线路区需要设置电阻的位置进行第三次蚀刻,蚀刻掉第三电解铜箔层(132),需要设置电阻的位置剩下的膜电阻层(131)形成内埋电阻(134);步骤S8:将蚀刻完成的带电阻箔双面覆铜板(10)、聚苯醚玻璃布粘接层(30)及聚苯醚玻璃布单面覆铜板(20)进行高温压合。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江九通电子科技有限公司,未经浙江九通电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910146251.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top